Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Шаповалов, В.А. |
|
dc.contributor.author |
Якуша, В.В. |
|
dc.contributor.author |
Гниздыло, А.Н. |
|
dc.date.accessioned |
2016-02-09T18:26:48Z |
|
dc.date.available |
2016-02-09T18:26:48Z |
|
dc.date.issued |
2003 |
|
dc.identifier.citation |
Тепловое поле крупногабаритных тугоплавких монокристаллов при комбинированном плазменно-индукционном нагреве / В.А. Шаповалов, В.В. Якуша, А.Н. Гниздыло // Современная электрометаллургия. — 2003. — № 3 (72). — С. 24-26. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
0233-7681 |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/94135 |
|
dc.description.abstract |
Приведены результаты исследований тепловых полей крупных монокристаллов вольфрама в условиях плазменно-индукционной зонной плавки (ПИЗП). Показано, что использование схемы ПИЗП с неподвижным плазменно-дуговым источником нагрева позволяет вырастить монокристаллы вольфрама диаметром не более 70 мм. Сканирование плазменно-дугового источника нагрева по радиусу кристалла дает возможность увеличить его диаметр. Даны соотношения мощностей источников плазменно-дугового и индукционного нагрева при выращивании больших кристаллов. |
uk_UA |
dc.description.sponsorship |
Работа выполнена при финансовой поддержке Научного технологического центра Украины. |
uk_UA |
dc.language.iso |
ru |
uk_UA |
dc.publisher |
Інститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Современная электрометаллургия |
|
dc.subject |
Плазменно-дуговая технология |
uk_UA |
dc.title |
Тепловое поле крупногабаритных тугоплавких монокристаллов при комбинированном плазменно-индукционном нагреве |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Thermal field of large-sized refractory single crystals at combined plasma-induction heating |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті