Показати простий запис статті

dc.contributor.author Kelnyk, O.I.
dc.contributor.author Samchuk, O.V.
dc.date.accessioned 2016-01-06T11:57:40Z
dc.date.available 2016-01-06T11:57:40Z
dc.date.issued 2011
dc.identifier.citation Microplasma discharge striation in the PDP cell / O.I. Kelnyk, O.V. Samchuk // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 1. — С. 134-136. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.other PACS: 52.65.-y, 52.77.-j, 52.80.-s
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/90949
dc.description.abstract Striation structures formation was investigated for microplasma discharge inside coplanar dielectric cell via particles in cells (PiC) method. These inhomogeneities appear in the discharge current pulse forefront before the sharp maximum of electron current to coplanar anode. Striation structures are formed as ion bunches and they are related with the disturbance of the potential relief near the address electrode. Formation of these structures corresponds to the increase of electrons' number in the high energy band. uk_UA
dc.description.abstract Досліджувалося утворення неоднорідностей для мікроплазмового розряду в копланарній діелектричній комірці шляхом моделювання методом великих частинок (PiC). Такі неоднорідності виникають на передньому фронті імпульсу розрядного струму перед різким максимумом електронного струму на копланарному аноді. Неоднорідності формуються як іонні згустки і пов'язані зі збуренням профілю потенціалу поблизу адресного електроду. Формування таких структур пов'язане із збільшенням кількості електронів у високоенергетичній частині розподілу за швидкостями. uk_UA
dc.description.abstract Исследовалось образование неоднородностей для микроплазменного разряда в копланарной диэлектрической ячейке путем моделирования методом крупных частиц (PiC). Такие неоднородности возникают на переднем фронте импульса разрядного тока перед резким максимумом электронного тока на копланарном аноде. Неоднородности формируются как ионные сгустки и связаны с возмущением профиля потенциала вблизи адресного электрода. Формирование таких структур связано с возрастанием количества электронов в высокоэнергетической части распределения по скоростям. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Низкотемпературная плазма и плазменные технологии uk_UA
dc.title Microplasma discharge striation in the PDP cell uk_UA
dc.title.alternative Утворення неоднорідностей мікроплазмового розряду в комірці плазмового дисплею uk_UA
dc.title.alternative Образование неоднородностей микроплазменного разряда в ячейке плазменного дисплея uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис