Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Лизунов, В.В. |
|
dc.contributor.author |
Кочелаб, Е.В. |
|
dc.contributor.author |
Скакунова, Е.С. |
|
dc.contributor.author |
Лень, Е.Г. |
|
dc.contributor.author |
Молодкин, В.Б. |
|
dc.contributor.author |
Олиховский, С.И. |
|
dc.contributor.author |
Толмачёв, Н.Г. |
|
dc.contributor.author |
Шелудченко, Б.В. |
|
dc.contributor.author |
Лизунова, С.В. |
|
dc.contributor.author |
Скапа, Л.Н. |
|
dc.date.accessioned |
2015-11-06T19:15:40Z |
|
dc.date.available |
2015-11-06T19:15:40Z |
|
dc.date.issued |
2015 |
|
dc.identifier.citation |
Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. II. Численный эксперимент / В.В. Лизунов, Е.В. Кочелаб, Е.С. Скакунова, Е.Г. Лень, В.Б. Молодкин, С.И. Олиховский, Н.Г. Толмачёв, Б.В. Шелудченко, С.В. Лизунова, Л.Н. Скапа // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2015. — Т. 13, № 2. — С. 349–370. — Бібліогр.: 19 назв. — рос. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
1816-5230 |
|
dc.identifier.other |
PACS numbers: 07.85.Jy, 61.05.cc, 61.05.cf, 61.05.cp, 61.46.Hk, 61.72.Dd, 68.55.jd |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/87995 |
|
dc.description.abstract |
На основе построенной в первой части работы обобщённой модели дисперсионночувствительной дифрактометрии неидеальных кристаллов произвольной толщины проведён анализ дифференциальных и интегральных картин рассеяния для широкого интервала эффективных толщин кристалла. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
На основі побудованої у першій частині роботи узагальненої моделі дисперсійночутливої дифрактометрії неідеальних кристалів довільної товщини проведено аналіз диференційних та інтеґральних картин розсіяння для широкого інтервалу ефективних товщин кристалу. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Based on generalized model of dispersion-sensitive diffractometry constructed in the first part for imperfect crystals of arbitrary thickness, the analysis of differential and integral scattering patterns for a wide range of effective thickness of the crystal is carried out. |
uk_UA |
dc.language.iso |
ru |
uk_UA |
dc.publisher |
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології |
|
dc.title |
Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. II. Численный эксперимент |
uk_UA |
dc.title.alternative |
The Dispersion Sensitivity of Scattering Pattern to Defects Depending on Thickness of Crystalline Products of Nanotechnologies. II. Numerical Experiment |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті