Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Вплив високотемпературного відпалу на параметри анізотропії рухливості і анізотропії термо-ЕРС захоплення електронів фононами в n–Si

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Баранський, П.І.
dc.contributor.author Гайдар, Г.П.
dc.date.accessioned 2015-10-23T19:09:28Z
dc.date.available 2015-10-23T19:09:28Z
dc.date.issued 2014
dc.identifier.citation Вплив високотемпературного відпалу на параметри анізотропії рухливості і анізотропії термо-ЕРС захоплення електронів фононами в n–Si / П.I. Баранський, Г.П. Гайдар // Доповiдi Нацiональної академiї наук України. — 2014. — № 5. — С. 70-75. — Бібліогр.: 15 назв. — укр. uk_UA
dc.identifier.issn 1025-6415
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/87704
dc.description.abstract У дослiдах з кристалами n−Si, легованими домiшкою фосфору через розплав i шляхом ядерної трансмутацiї, дослiджено вплив високотемпературного вiдпалу (при T = 1200 °С протягом 2 год) на параметр анiзотропiї рухливостi K = μ⊥/μ|| i параметр анiзотропiї термо-ЕРС захоплення електронiв фононами M = α||^ф/ α⊥^ф. Показано, що в кристалах кремнiю, легованих через розплав, термовiдпал приводить до помiтного зниження величини M, тодi як у трансмутацiйно легованих зразках значення цього параметра збiльшується в ~1,5 раза. Встановлено, що параметр анiзотропiї рухливостi K в кристалах обох типiв залишається практично незмiнним. Запропоновано пояснення одержаних результатiв. uk_UA
dc.description.abstract В опытах с кристаллами n−Si, легированными примесью фосфора через расплав и путем ядерной трансмутации, исследовано влияние высокотемпературного отжига (при T = 1200 °С в течение 2 ч) на параметр анизотропии подвижности K = μ⊥/μ|| и параметр анизотропии термо-ЭДС увлечения электронов фононами M = α||^ф/ α⊥^ф. Показано, что в кристаллах кремния, легированных через расплав, термоотжиг приводит к заметному снижению величины М, тогда как в трансмутационно легированных образцах значение этого параметра увеличивается в ~1,5 раза. Установлено, что параметр анизотропии подвижности K в кристаллах обоих типов остается практически неизменным. Предложено объяснение полученных результатов. uk_UA
dc.description.abstract In the experiments with crystals of n−Si doped with impurities of phosphorus through the melt and by the nuclear transmutation, the influence of the high-temperature annealing (at T = 1200 °С during 2 h) on the anisotropy parameter of mobility K = μ⊥/μ|| and on the anisotropy parameter of the thermoelectromotive-drag of electrons by phonons M = α||^ph/ α⊥^ph is investigated. It is shown that, in silicon crystals doped through the melt, the thermoannealing leads to a marked reduction in the value of M, whereas the value of this parameter increases by about 1.5 times in transmutation- doped samples. It is found that the anisotropy parameter of mobility K in the crystals of both types remains almost unchanged. The explanation of the results obtained is proposed. uk_UA
dc.language.iso uk uk_UA
dc.publisher Видавничий дім "Академперіодика" НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Доповіді НАН України
dc.subject Фізика uk_UA
dc.title Вплив високотемпературного відпалу на параметри анізотропії рухливості і анізотропії термо-ЕРС захоплення електронів фононами в n–Si uk_UA
dc.title.alternative Влияние высокотемпературного отжига на параметры анизотропии подвижности и анизотропии термо-ЭДС увлечения электронов фононами в n−Si uk_UA
dc.title.alternative Influence of the high-temperature annealing on the anisotropy parameters of mobility and the anisotropy of the thermoelectromotive-drag of electrons by phonons in n−Si uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA
dc.identifier.udc 621.315.592.3


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис