Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Баранський, П.І. |
|
dc.contributor.author |
Гайдар, Г.П. |
|
dc.date.accessioned |
2015-10-23T19:09:28Z |
|
dc.date.available |
2015-10-23T19:09:28Z |
|
dc.date.issued |
2014 |
|
dc.identifier.citation |
Вплив високотемпературного відпалу на параметри анізотропії рухливості і анізотропії термо-ЕРС захоплення електронів фононами в n–Si / П.I. Баранський, Г.П. Гайдар // Доповiдi Нацiональної академiї наук України. — 2014. — № 5. — С. 70-75. — Бібліогр.: 15 назв. — укр. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
1025-6415 |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/87704 |
|
dc.description.abstract |
У дослiдах з кристалами n−Si, легованими домiшкою фосфору через розплав i шляхом ядерної трансмутацiї, дослiджено вплив високотемпературного вiдпалу (при T = 1200 °С протягом 2 год) на параметр анiзотропiї рухливостi K = μ⊥/μ|| i параметр
анiзотропiї термо-ЕРС захоплення електронiв фононами M = α||^ф/ α⊥^ф. Показано, що
в кристалах кремнiю, легованих через розплав, термовiдпал приводить до помiтного
зниження величини M, тодi як у трансмутацiйно легованих зразках значення цього
параметра збiльшується в ~1,5 раза. Встановлено, що параметр анiзотропiї рухливостi K в кристалах обох типiв залишається практично незмiнним. Запропоновано пояснення одержаних результатiв. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
В опытах с кристаллами n−Si, легированными примесью фосфора через расплав и путем
ядерной трансмутации, исследовано влияние высокотемпературного отжига (при T = 1200 °С в течение 2 ч) на параметр анизотропии подвижности K = μ⊥/μ|| и параметр анизотропии термо-ЭДС увлечения электронов фононами M = α||^ф/ α⊥^ф. Показано,
что в кристаллах кремния, легированных через расплав, термоотжиг приводит к заметному снижению величины М, тогда как в трансмутационно легированных образцах значение
этого параметра увеличивается в ~1,5 раза. Установлено, что параметр анизотропии подвижности K в кристаллах обоих типов остается практически неизменным. Предложено объяснение полученных результатов. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
In the experiments with crystals of n−Si doped with impurities of phosphorus through the melt and
by the nuclear transmutation, the influence of the high-temperature annealing (at T = 1200 °С
during 2 h) on the anisotropy parameter of mobility K = μ⊥/μ|| and on the anisotropy parameter
of the thermoelectromotive-drag of electrons by phonons M = α||^ph/ α⊥^ph is investigated. It is shown
that, in silicon crystals doped through the melt, the thermoannealing leads to a marked reduction in
the value of M, whereas the value of this parameter increases by about 1.5 times in transmutation-
doped samples. It is found that the anisotropy parameter of mobility K in the crystals of both types
remains almost unchanged. The explanation of the results obtained is proposed. |
uk_UA |
dc.language.iso |
uk |
uk_UA |
dc.publisher |
Видавничий дім "Академперіодика" НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Доповіді НАН України |
|
dc.subject |
Фізика |
uk_UA |
dc.title |
Вплив високотемпературного відпалу на параметри анізотропії рухливості і анізотропії термо-ЕРС захоплення електронів фононами в n–Si |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Влияние высокотемпературного отжига на параметры анизотропии подвижности и анизотропии термо-ЭДС увлечения электронов фононами в n−Si |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Influence of the high-temperature annealing on the anisotropy parameters of mobility and the anisotropy of the thermoelectromotive-drag of electrons by phonons in n−Si |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
dc.identifier.udc |
621.315.592.3 |
|
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті