Генерация и формирование пучков металлических ионов на высокодозном ионном имплантере

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення ядерної фізики та енергетики
→
Вопросы атомной науки и техники
→
Bопросы атомной науки и техники, 2015
→
Вопросы атомной науки и техники, 2015, № 2
→
Переглянути статтю

dc.contributor.author	Батурин, В.А.
dc.contributor.author	Еремин, С.А.
dc.contributor.author	Пустовойтов, С.А.
dc.contributor.author	Литвинов, П.А.
dc.contributor.author	Карпенко, А.Ю.
dc.contributor.author	Мирошниченко, В.И.
dc.date.accessioned	2015-05-29T18:18:34Z
dc.date.available	2015-05-29T18:18:34Z
dc.date.issued	2015
dc.identifier.citation	Генерация и формирование пучков металлических ионов на высокодозном ионном имплантере / В.А. Батурин, С.А. Еремин, С.А. Пустовойтов, П.А. Литвинов, А.Ю. Карпенко, В.И. Мирошниченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 2. — С. 204-209. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.	uk_UA
dc.identifier.issn	1562-6016
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82461
dc.description.abstract	Разработана установка для высокодозной имплантации металлических ионов в диапазоне энергий 20…500 кэВ. Использован газомагнетронный источник ионов металлов распылительного типа. Проведено компьютерное моделирование процессов экстракции ионного пучка из плазменной границы источника ионов и его транспортировки в ионно-оптической системе имплантера. Получены масс-спектры пучков ионов.	uk_UA
dc.description.abstract	Розроблено установку для високодозної імплантації металевих іонів у діапазоні енергій 20…500 кеВ. Використанo газомагнетронне джерело іонів металів розпилювального типу. Проведено комп’ютерне моделювання процесів екстракції іонного пучка з плазмової границі джерела іонів та транспортування пучка в іонно-оптичній системі імплантера. Отримано мас-спектри пучків іонів.	uk_UA
dc.description.abstract	Installation for high-dose implantation of metal ions with energies of 20…500 keV was designed. Gas magnetron metal ion source of sputter type was used. Computer simulation of processes of ion beam extraction from plasma boundary of the ion source and beam transporting in the ion-optic system of the implanter was made. Mass-spectra of ion beams were obtained.	uk_UA
dc.description.sponsorship	Авторы выражают благодарность В.Е. Сторижко и В.Н. Воеводину за постановку задачи и постоянное внимание к работе. Работа выполнена при поддержке гранта НАН Украины №К-9-69/2013.	uk_UA
dc.language.iso	ru	uk_UA
dc.publisher	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Вопросы атомной науки и техники
dc.subject	Диагностика и методы исследований	uk_UA
dc.title	Генерация и формирование пучков металлических ионов на высокодозном ионном имплантере	uk_UA
dc.title.alternative	Генерація та формування пучків металевих іонів на високодозному іонному імплантері	uk_UA
dc.title.alternative	Generation and formation of metal ion beams on high-dose ion implanter	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA
dc.identifier.udc	537.534.3:621.384.6