Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Corrosion durability of nanostructured TiAlYN coatings, deposited by PIII&D method from filtered vacuum-arc cathodic plasma

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Vasyliev, V.V.
dc.contributor.author Luchaninov, A.A.
dc.contributor.author Sevidova, E.K.
dc.contributor.author Strel'nitskij, V.E.
dc.date.accessioned 2015-05-29T17:27:12Z
dc.date.available 2015-05-29T17:27:12Z
dc.date.issued 2015
dc.identifier.citation Corrosion durability of nanostructured TiAlYN coatings, deposited by PIII&D method from filtered vacuum-arc cathodic plasma / V.V. Vasyliev, A.A. Luchaninov, E.K. Sevidova, V.E. Strel'nitski // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 2. — С. 100-104. — Бібліогр.: 16 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82449
dc.description.abstract The electrochemical characteristics of nanostructured TiAlYN coatings deposited on 12X18H10T steel substrates are investigated in 3% aqueous solution of NaCl. The coatings were deposited from filtered vacuum-arc plasma by PIII&D method. Measurements of corrosion potentials Ecor and anodic polarization curves showed that the best protection against galvanic corrosion (GC) provides TiA1YN coating containing 0.2 at.% Y deposited on the substrate when applying pulsed bias potential of -1.5 kV amplitude. Addition DC bias potential of -150 V to pulse one leads to deterioration of the protective properties: activation potential of anodic processes (APAP) decreases in 3…4 times. Increase in TiA1YN coatings deposition rate promotes improvement their protective properties due to improved adhesion and decreased level of residual stress. uk_UA
dc.description.abstract Исследованы электрохимические характеристики наноструктурных TiAlYN-покрытий на стали 12Х18Н10Т в 3% водном растворе NaCl. Покрытия осаждались из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы методом PIII&D. Измерения потенциалов коррозии Екор, а также анодные поляризационные кривые показали, что наилучшую защиту от электрохимической коррозии (ЭХК) обеспечивают TiA1YN-покрытия с содержанием Y 0,2 ат.%, осажденные при подаче на подложку импульсного потенциала смещения амплитудой -1,5 кВ. Подача дополнительно постоянного потенциала смещения -150 В приводит к ухудшению защитных свойств: потенциал активации анодных процессов (ПААП) уменьшается в 3–4 раза. Повышение скорости осаждения способствует улучшению защитных свойств TiA1YN-покрытий, что обусловлено улучшением адгезии и снижением уровня остаточных напряжений. uk_UA
dc.description.abstract Досліджено електрохімічні характеристики наноструктурних TiAlYN-покриттів на сталі 12Х18Н10Т в 3% водному розчині NaCl. Покриття осаджувались з фільтрованої вакуумно-дугової плазми методом PIII&D. Вимірювання потенциалів корозії Екор, а також анодні поляризаційні криві показали, що найкращий захист від електрохімічної корозії (ЕХК) забезпечують TiA1YN-покриття з вмістом Y 0,2 ат.%, осаджені при подачі на підкладку імпульсного потенціала зміщення амплітудою -1,5 кВ. Подача додатково постійного потенціала зміщення -150 В призводить до погіршення захисних властивостей: потенціал активації анодних процесів (ПААП) зменшується в 3–4 рази. Підвищення швидкості осадження сприяє поліпшенню захисних властивостей TiA1YN-покриттів, що зумовлено поліпшенням адгезії та зниженням рівня залишкових напружень. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Физика радиационных и ионно-плазменных технологий uk_UA
dc.title Corrosion durability of nanostructured TiAlYN coatings, deposited by PIII&D method from filtered vacuum-arc cathodic plasma uk_UA
dc.title.alternative Коррозионная стойкость наноструктурных TiAlYN-покрытий, синтезированных PIII&D-методом из фильтрованной вакуумно-дуговой катодной плазмы uk_UA
dc.title.alternative Корозійна стійкість наноструктурних TiAlYN-покриттів, синтезованих PIII&D-методом з фільтрованої вакуумно-дугової катодної плазми uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA
dc.identifier.udc 541.13


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис