Показати простий запис статті

dc.contributor.author Lisovskiy, V.A.
dc.contributor.author Yakovin, S.D.
dc.contributor.author Yegorenkov, V.D.
dc.contributor.author Terent’eva, A.G.
dc.date.accessioned 2015-05-18T12:48:38Z
dc.date.available 2015-05-18T12:48:38Z
dc.date.issued 2000
dc.identifier.citation Plasma sterilization in low-pressure RF discharge / V.A. Lisovskiy, S.D. Yakovin, V.D. Yegorenkov, A.G. Terent’eva // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 1. — С. 77-81. — Бібліогр.: 14 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/81613
dc.description.abstract The present paper clarifies the conditions under which the process of plasma sterilization of medical tools may be efficiently performed in the RF capacitive gas discharge of low pressure in air. Experiments were performed with a number of gram-positive and gram-negative bacteria as well as with fungi. The process of sterilization in the RF discharge is shown to possess a threshold pattern. Probably the bombardment of bacteria with positive ions and hot molecules of the neutral gas is the main sterilizing factor in the low pressure RF discharge, and the UV radiation of plasma plays the auxiliary role. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Газовый рaзряд, ППР и их применения uk_UA
dc.title Plasma sterilization in low-pressure RF discharge uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA
dc.identifier.udc 533.9


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис