Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Костин, Е.Г.
dc.date.accessioned 2015-05-10T14:29:37Z
dc.date.available 2015-05-10T14:29:37Z
dc.date.issued 2006
dc.identifier.citation Применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока / Е.Г. Костин // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 5. — С. 131-135. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.other PACS: 52.77.-j
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/81131
dc.description.abstract Приведены результаты исследований разрядного устройства для ионизации паров твердофазных веществ, испаряемых электронной пушкой с отклонением луча на 180°. Ионизирующее разрядное устройство диодного типа размещалось над поверхностью испаряемого материала и находилось в продольном регулируемом магнитном поле. Разряд осуществлялся в скрещенных электрическом и магнитном полях. Частичная ионизация пара производилась первичными и вторичными электронами пушки в облаке пара над испаряемым веществом. Изучались электрофизические свойства и структура осаждённых из ионизированного потока плёнок. Проведен сравнительный анализ свойств пленок, осажденных в условиях воздействия бомбардировки ионами испаряемого металла в зависимости от энергии и содержания ионов в потоке частиц на подложку. uk_UA
dc.description.abstract Наведені результати досліджень розрядного пристрою для іонізації пару твердофазних речовин. Випаровування речовини проводилось електронною гарматою з відхиленням проміня на 180°. Іонізуючій розрядний пристрій діодного типу розміщувався над поверхнею випаровуємого матеріалу і знаходився в продольному регулюємому магнітному полі. Таким чином розряд відбувався в схрещених електричному і магнітному полях. Часткова іонізація пару здійснювалась первинними та вторинними електронами електронної гармати в щільній парі над випаровуємою речовиною. Досліджувались електрофізичні властивості та структура плівок, осaджених з іонізованного потоку. Проведено порівняльний аналіз властивостей плівок, які осаджені в умовах впливу бомбардування іонами металу, що випаровуєтся, в залежності від енергії іонів та відносного вмісту іонів у потоці частинок на підкладину. uk_UA
dc.description.abstract Results of researches of the discharge device for ionization of the vapor of solid materials are presented. Evaporation of a material was made by an electron gun with a deviation of a beam on 180°. Diode type discharge device for ionization was placed above a surface of evaporated metal and was in a longitudinal adjustable magnetic field. Discharge was carried out in crossed electric and magnetic fields. Partial ionization of the vapor was made by primary and secondary electrons of the gun in a vapor cloud above evaporated substance. Physical properties and structure of the films. The comparative analysis of the films properties, besieged in conditions of influence of bombardment by ions of evaporated metal were studied depending on energy and the contents of ions in a stream of particles on a substrate. uk_UA
dc.language.iso ru uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Газовый разряд, плазменно-пучковый разряд uk_UA
dc.title Применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока uk_UA
dc.title.alternative Застосування розрядів в парі випаровуємого металу для осадження плівок з іонізованого потоку uk_UA
dc.title.alternative Application of discharges in vapor of evaporated metals for the film deposition from the ionized stream uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис