Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems

dc.contributor.author	Aksenov, I.I.
dc.date.accessioned	2015-03-30T09:23:13Z
dc.date.available	2015-03-30T09:23:13Z
dc.date.issued	2002
dc.identifier.citation	Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems / I.I. Aksenov // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 5. — С. 139-141. — Бібліогр.: 26 назв. — англ.	uk_UA
dc.identifier.issn	1562-6016
dc.identifier.other	PACS: 52.77.-j
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/79281
dc.description.abstract	This article is a brief historical review of R&D carried out by the KIPT scientists in the field of magnetic filtering of vacuum-arc plasma flows to be applied in thin film deposition technology.	uk_UA
dc.language.iso	en	uk_UA
dc.publisher	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Вопросы атомной науки и техники
dc.subject	Low temperature plasma and plasma technologies	uk_UA
dc.title	Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA