Beam position measurement for electron cooler EC-300 and EC-35

Abstract

The beam position measurement system of EC-35 and EC-300 is presented in this paper. The electrostatic pickup is used for beam position measuring. The ion and electron currents have alternative part with the magnitude of about 1 mA. The important feature of the beam position measurement system (BPM system) is simultaneous measurements of the positions of both the ion and the electron beams. The resolution of the beam position measurement is about 1 mm, diameter vacuum chamber 300 mm.

Описана система измерения положения пучков электронов и ионов в установках электронного охлаждения ЕХ-300 и ЕХ-35. Для определения положения пучков применяются электростатические пикапы. Важной особенностью системы измерения положения пучков является её способность одновременно измерять положения как ионов, так и электронов. Разрешение измерения положения пучков около 1 мм при диаметре вакуумной камеры 300 мм.

Описано систему виміру положення пучків електронів і іонів в установках електронного охолодження ЕХ-300 і ЕХ-35. Для визначення положення пучків застосовуються електростатичні пікапи. Важливою особливістю системи виміру положення пучків є її здатність одночасно вимірювати положення як іонів, так і електронів. Розділення виміру положення пучків близько 1 мм при діаметрі вакуумної камери 300 мм.