Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Технологічні методи керування властивостями наноструктурованого кремнію

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Білик, Т.Ю.
dc.contributor.author Шмирєва, О.М.
dc.contributor.author Мельниченко, М.М.
dc.date.accessioned 2015-02-10T12:41:06Z
dc.date.available 2015-02-10T12:41:06Z
dc.date.issued 2009
dc.identifier.citation Технологічні методи керування властивостями наноструктурованого кремнію / Т.Ю. Білик, О.М. Шмирєва, М.М. Мельниченко // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2009. — Т. 7, № 2. — С. 395-402. — Бібліогр.: 9 назв. — укр. uk_UA
dc.identifier.issn 1816-5230
dc.identifier.other PACSnumbers:78.55.Mb,78.67.Rb,81.07.Bc,81.40.Tv,81.65.Cf,85.60.Dw,85.60.Gz
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/76425
dc.description.abstract При формуванні наноструктурованого кремнію на підложжях монокристалічного кремнію відбувається зміна не тільки структурних властивостей, що призводить до зміни ширини забороненої зони і прояву квантоворозмірних ефектів, але й утворення на поверхні нових сполук кремнію з підвищеним вмістом водню й аморфного кремнію. Така складна структура обумовлює прояв нових електрофізичних, фотоелектричних, теплофізичних та фотолюмінесцентних властивостей, що дозволяє створювати нові типи напівпровідникових приладів, зокрема, фотоприймачі короткохвильової частини спектру. Метою даної роботи є подальше дослідження технологічних метод керування функціональними властивостями наноструктурованого кремнію із застосуванням нових складів щавників. uk_UA
dc.description.abstract Formation of nanoporous silicon on monocrystalline silicon wafers changes structural properties that results in forbidden-bandwidth change and quantumdimension effects appearance as well as appearance of new silicon compounds with higher hydrogen and amorphous-silicon contents on the silicon surface. Such a complex structure with new electrophysical, photoelectrical, thermophysical, and photoluminescent properties makes possible new types of semiconductor devices, in particular, light detectors of short-wave spectral range. Goal of this work is to study technological methods for governing by functional properties of nanoporous silicon using new compositions of etching agents. uk_UA
dc.description.abstract При формировании наноструктурированного кремния на подложках монокристаллического кремния происходит изменение не только структурных свойств, что приводит к изменению ширины запрещенной зоны и проявлению квантово-размерных эффектов, но и к возникновению на поверхности новых соединений кремния с повышенным содержанием водорода и аморфного кремния. Такая сложная структура приводит к проявлению новых электрофизических, фотоэлектрических, теплофизических и фотолюминесцентных свойств, что позволяет создавать новые типы полупровод-никовых приборов, в частности, фотоприемники коротковолновой части спектра. Целью данной работы является дальнейшее изучение технологических методов управления функциональными свойствами наноструктурированного кремния с применением новых составов травителей. uk_UA
dc.language.iso uk uk_UA
dc.publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
dc.title Технологічні методи керування властивостями наноструктурованого кремнію uk_UA
dc.title.alternative Technological Methods for Control of Nanostructured Silicon Properties
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис