Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Формирование наноструктур в Gе при условии дислокационно-поверхностной диффузии

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Надточий, В.А.
dc.contributor.author Уколов, А.И.
dc.contributor.author Нечволод, Н.К.
dc.date.accessioned 2014-10-16T16:55:02Z
dc.date.available 2014-10-16T16:55:02Z
dc.date.issued 2012
dc.identifier.citation Формирование наноструктур в Gе при условии дислокационно-поверхностной диффузии / В.А. Надточий, А.И. Уколов, Н.К. Нечволод // Физика и техника высоких давлений. — 2012. — Т. 22, № 3. — С. 54-62. — Бібліогр.: 21 назв. — рос. uk_UA
dc.identifier.issn 0868-5924
dc.identifier.other PACS: 81.10.Aj, 64.60.Qb, 66.30.Fq
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/69559
dc.description.abstract Исследовано явление низкотемпературной диффузии в Ge вдоль выходящих на поверхность дислокационных полупетель при создании градиентов напряжения под действием деформации изгиба или сжатия. Показана возможность создания на поверхности низкоразмерных атомных структур, свойства которых изучены методами атомно-силовой микроскопии (АСМ) и рамановской спектроскопии комбинационного рассеяния света. uk_UA
dc.description.abstract Досліджено явище низькотемпературної дифузії в Ge уздовж спрямованих на поверхню дислокаційних напівпетель при створенні градієнтів під дією деформації згинання або стискання. Показано можливість утворення на поверхні низькорозмірних атомних структур, властивості яких вивчено за методами атомно-силової мікроскопії та раманівської спектроскопії комбінаційного розсіювання світла. uk_UA
dc.description.abstract The phenomenon of low-temperature diffusion in Ge along dislocation semi-loops emerging on the surface at creation of stress gradients under the deformation of bend or compression was investigated. Possibility of creation of low-dimensional atomic structure on the surface is shown. Their properties are studied by atomic force microscopy and Raman spectroscopy technique. uk_UA
dc.description.sponsorship Авторы выражают благодарность сотрудникам Института полупроводников им. В.Е. Лашкарева докт. физ.-мат. наук В.В. Стрельчуку и канд. физ.-мат. наук О.С. Литвин за помощь в снятии спектров КРС и в проведении структурных исследований методом АСМ. uk_UA
dc.language.iso ru uk_UA
dc.publisher Донецький фізико-технічний інститут ім. О.О. Галкіна НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Физика и техника высоких давлений
dc.title Формирование наноструктур в Gе при условии дислокационно-поверхностной диффузии uk_UA
dc.title.alternative Формування наноструктур в Ge за умови дислокаційно-поверхневої дифузії uk_UA
dc.title.alternative Nanostructure formation in Ge under dislocation-surface diffusion uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис