Получение аморфных пленок гидрогенизированного углерода низкотемпературной плазме тлеющего разряда

Abstract

Исследовано осаждение пленок гидрогенизированного аморфного углерода из смеси циклогексанаргона и метана в низкотемпературной плазме тлеющего разряда при использовании двух электрических разрядов: частотой 50 Гц для создания проводящей среды и активации газа в положительном столбе тлеющего разряда, 5–80 и 250 кГц для управления потоком ионов на поверхность осаждения, а также соотношение параметров процесса, свойств и микроструктуры пленок.

Досліджено осадження плівок гидрогенізованого аморфного вуглецю з суміші циклогексанаргону і метану в низькотемпературній плазмі тліючого розряду при використанні двох електричних розрядів: частотою 50 Гц для створення провідного середовища та активації газу в позитивному стовпі тліючого розряду, 5-80 і 250 кГц для управління потоком іонів на поверхню осадження, а також співвідношення параметрів процесу, властивостей і мікроструктури плівок.

Deposition of hydrogenated amorphous carbon films in low-temperature cyclohexan-argon and methane plasma of glow discharge was studied. Two electric discharges were applied: for creation of conductive medium and gas activation in positive column of glow discharge (50 Hz) and for ion flux training onto deposition surface (5-80 kHz and 250 kHz). Relation between the process parameters, properties and microstructure of carbon films was examined.