Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Метод жидкофазной эпитаксии толстых слоев

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Дранчук, С.Н.
dc.contributor.author Завадский, В.А.
dc.contributor.author Мокрицкий, В.А.
dc.date.accessioned 2014-02-15T23:29:42Z
dc.date.available 2014-02-15T23:29:42Z
dc.date.issued 2013
dc.identifier.citation Метод жидкофазной эпитаксии толстых слоев / С.Н. Дранчук, В.А. Завадский, В.А. Мокрицкий // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2013. — № 2-3. — С. 58-60. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. uk_UA
dc.identifier.issn 2225-5818
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/56321
dc.description.abstract На основе разработанной авторами модели массопереноса предложен новый метод эпитаксии толстых слоев. Метод предусматривает рост различных частей слоев в двухслойных системах, получаемых из раствора-расплава, и позволяет контролировать толщину подплавления подложек и толщину слоев, полученных на верхней и нижней подложках, с учетом различия механизмов переноса кристаллизуемого вещества. uk_UA
dc.description.abstract На основі розробленої авторами моделі масопереносу запропоновано новий метод епітаксії товстих шарів. Метод передбачає вирощування різних частин шарів в двошарових системах, одержуваних з розчину-розплаву, і дозволяє контролювати товщину підплавлення підкладок і товщину шарів, отриманих на верхній та нижній підкладках з урахуванням відмінностей механізмів перенесення речовини, що кристалізується. uk_UA
dc.description.abstract On the basis of the authors' model of mass transfer, a new method for thick layers epitaxy has been developed. The method provides for the growth of different parts of the layers in two-layer systems obtained from the solution-melt and allows to control the thickness of substrate submelting and the thickness of layers obtained at the upper and lower substrates, in consideration of different crystallized substance transport mechanisms. uk_UA
dc.language.iso ru uk_UA
dc.publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Технология и конструирование в электронной аппаратуре
dc.subject Материалы электроники uk_UA
dc.title Метод жидкофазной эпитаксии толстых слоев uk_UA
dc.title.alternative Метод рідиннофазної епітаксії товстих шарів uk_UA
dc.title.alternative Thick layers liquid-phase epitaxy method uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA
dc.identifier.udc 621.362:621.383


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис