Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Прибор и методы измерения параметров и степени однородности пленочных структур

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Макара, В.А.
dc.contributor.author Одарич, В.А.
dc.contributor.author Кепич, Т.Ю.
dc.contributor.author Преображенская, Т.Д.
dc.contributor.author Руденко, О.В.
dc.date.accessioned 2013-12-27T00:02:37Z
dc.date.available 2013-12-27T00:02:37Z
dc.date.issued 2009
dc.identifier.citation Прибор и методы измерения параметров и степени однородности пленочных структур / В.А. Макара, В.А. Одарич, Т.Ю. Кепич, Т.Д. Преображенская, О.В. Руденко // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 3. — С. 40-46. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. uk_UA
dc.identifier.issn 2225-5818
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/52063
dc.description.abstract Разработана блок-схема, изготовлен макет прибора и создан пакет автоматизированных программ для измерения показателя преломления и контроля толщины пленок в процессе изготовления пленочных структур. uk_UA
dc.description.abstract У роботі проведено конструкторсько-технологічний аналіз схеми вимірювання еліпсометричних параметрів, розрахунку показника заломлення і товщини плівки, розроблено блок-схему і створено макет приладу для контролю однорідності плівкових структур в процесі їх виготовлення. Розроблено пакет автоматизованих програм обчислення показника заломлення і товщини плівок по зміряних еліпсометричних параметрах, які засновані на ітераційному методі вирішення рівняння еліпсометрії. Проведено апробацію приладу на прикладі визначення показника заломлення і товщини плівок CdTe і плівок HfO₂, яка показала можливість контролю однорідностіплівок як за площею, так і по товщині.· uk_UA
dc.description.abstract The designer-technological analysis of ellipsometric parameters measuring and calculation of the film refraction index and thickness scheme is conducted in this article. The flow-chart is developed and the model of apparatus for the film refraction index and thickness measuring and control of the film structures technology making is created. Package of automated programs of the film refraction index and thicknes calculating on the measured ellipsometric parameters, based on the iteration method of decision of ellipsometry equation was developed. The approbation of device, which showed the checking feature of films homogeneity both on an area and on a thickness on the example of determination of CdTe and HfO₂ films refraction index and thickness is conducted. uk_UA
dc.language.iso ru uk_UA
dc.publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Технология и конструирование в электронной аппаратуре
dc.subject Технологические процессы и оборудование uk_UA
dc.title Прибор и методы измерения параметров и степени однородности пленочных структур uk_UA
dc.title.alternative Прилад і методи вимірювання параметрів і ступеню однорідності плівкових структур uk_UA
dc.title.alternative Apparatus and methods for measuring of the film structures homogeneity degree uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис