Изменение свойств пленок кремнийорганических стекол после термической и плазмохимической обработок

dc.contributor.author	Иванчиков, А.Э.
dc.contributor.author	Кисель, А.М.
dc.contributor.author	Медведева, А.Б.
dc.contributor.author	Плебанович, В.И.
dc.date.accessioned	2013-12-26T00:43:52Z
dc.date.available	2013-12-26T00:43:52Z
dc.date.issued	2009
dc.identifier.citation	Изменение свойств пленок кремнийорганических стекол после термической и плазмохимической обработок / А.Э. Иванчиков, А.М. Кисель, А.Б. Медведева, В.И. Плебанович // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 2. — С. 46-50. — Бібліогр.: 2 назв. — рос.	uk_UA
dc.identifier.issn	2225-5818
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/52046
dc.description.abstract	Установлено, что оценка качества пленки после различных технологических операций изготовления ИС может проводиться по изменению спектра пропускания пленки. Это позволяет исключить брак ИС, обусловленный обрывом слоя металла.	uk_UA
dc.description.abstract	Встановлено, що оцінка якості плівки після різних технологічних операцій виготовлення ІС може проводитися по зміні спектру пропускання плівки. Це дозволяє виключити брак ІС, обумовлений обривом шару металу.	uk_UA
dc.description.abstract	It is established, that the estimation of quality of a film after various technological operations of IC manufacturing can be realized by means of changing the transmission spectrum of the film. It allows to exclude rejects of ICs caused by breakage of a metal layer.	uk_UA
dc.language.iso	ru	uk_UA
dc.publisher	Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Технология и конструирование в электронной аппаратуре
dc.subject	Материалы электроники	uk_UA
dc.title	Изменение свойств пленок кремнийорганических стекол после термической и плазмохимической обработок	uk_UA
dc.title.alternative	Зміна властивостей плівок кремнійорганічних стекол після термічної та плазмохімічної обробок	uk_UA
dc.title.alternative	Modification of spin-on-glass films properties during the thermal and plasma treatments	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA