Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Семчук, О.Ю. |
|
dc.contributor.author |
Клименко, В.Є. |
|
dc.date.accessioned |
2011-11-29T15:50:51Z |
|
dc.date.available |
2011-11-29T15:50:51Z |
|
dc.date.issued |
2011 |
|
dc.identifier.citation |
Розрахунок кутової залежності випромінювання, що розсіяне поверхнею фотопружного середовища / О.Ю. Семчук, В.Є. Клименко // Хімія, фізика та технологія поверхні. — 2011. — Т. 2, № 1. — С. 20-22. — Бібліогр.: 9 назв. — укр. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
2079-1704 |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/29037 |
|
dc.description.abstract |
В рамках теорії некогерентного розсіяння, обумовленого взаємодією електромагнітної хвилі з флуктуаціями поверхневих хвиль Релея, розрахована кутова залежність випромінювання, розсіяного поверхнею фотопружного середовища. Аналіз інтегрального коефіцієнта розсіяння свідчить, що неоднорідність діелектричної проникності дає суттєвий внесок в його величину при кутах розсіяння до 35°. З подальшим збільшенням кута розсіяння визначальним стає фотопружний механізм розсіяння. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
В рамках теории некогерентного рассеяния, обусловленного взаимодействием электромагнитной волны с флуктуациями поверхностных волн Релея, рассчитана угловая зависимость рассеянного поверхностью фотоупругой среды излучения. Анализ интегрального коэффициента рассеяния показывает, что неоднородность диэлектрической проницаемости дает существенный вклад в его величину при углах рассеяния до 35°. При дальнейшем увеличении угла рассеяния определяющим становится фотоупругий механизм рассеяния. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
The angular dependence of irradiation scattering by surface of photoelastic media is calculated within the framework of the theory of noncoherent scattering caused by the interaction of electromagnetic wave with fluctuations of Rayleigh surface waves. The analysis of integral scattering factor demonstrates that the heterogeneity of permittivity gives an essential input to value of the former at scattering angles up to 35°. With the further increase in scattering angle, the photoelastic mechanism of scattering becomes already decisive. |
uk_UA |
dc.description.sponsorship |
Автори вдячні О.І. Гічан за допомогу в проведенні чисельних розрахунків. |
uk_UA |
dc.language.iso |
uk |
uk_UA |
dc.publisher |
Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Хімія, фізика та технологія поверхні |
|
dc.title |
Розрахунок кутової залежності випромінювання, що розсіяне поверхнею фотопружного середовища |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Расчет угловой зависимости излучения, рассеянного поверхностью фотоупругой среды |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Calculation on Angular Dependence of Irradiation Scattering by Surface of Photoelastic Media |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
dc.identifier.udc |
535:537:539:546 |
|
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті