Влияние поверхности на перенос заряда в тонких металлических пленках на основе непереходных металлов

Домашня сторінка
→
Хімічні та біологічні науки
→
Відділення хімії
→
Хімія, фізика та технологія поверхні (журнал)
→
Хімія, фізика та технологія поверхні, 2010 (том 1)
→
Хімія, фізика та технологія поверхні, 2010, № 2
→
Переглянути статтю

dc.contributor.author	Бигун, Р.И.
dc.contributor.author	Стасюк, З.В.
dc.contributor.author	Барабаш, М.Ю.
dc.contributor.author	Куницкий, Ю.А.
dc.date.accessioned	2011-11-27T07:50:05Z
dc.date.available	2011-11-27T07:50:05Z
dc.date.issued	2010
dc.identifier.citation	Влияние поверхности на перенос заряда в тонких металлических пленках на основе непереходных металлов / Р.И. Бигун, З.В. Стасюк, М.Ю. Барабаш, Ю.А. Куницкий // Хімія, фізика та технологія поверхні. — 2010. — Т. 1, № 2. — С. 128-137. — Бібліогр.: 50 назв. — рос.	uk_UA
dc.identifier.issn	2079-1704
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/28970
dc.description.abstract	Обсуждается проблема создания сверхтонких (толщина слоя от 2 до 5 нм) электрически сплошных проводящих стабильных слоев металлов и исследования их электрических свойств. Рассмотрена возможность применения сурфактантных подслоев для предотвращения коагуляции зародышей кристаллизации в процессе роста пленок. Сделан анализ современного состояния модельных представлений о переносе заряда в металлических образцах ограниченных размеров и на его основе проведена трактовка результатов экспериментального исследования сверхтонких металлических пленок.	uk_UA
dc.description.abstract	Обговорено проблему створення надтонких (товщина шару від 2 до 50 нм) електрично суцільніх стабільних провідних шарів металів і вивчення їхніх електричних властивостей. Розглянуто можливість застосування сурфактантних підшарів для запобігання коагуляції зародків кристалізації в процесі росту плівок. Здійснено аналіз сучасного стану модельних уявлень про перенесення заряду в металевих зразках обмежених розмірів і на його основі проведено трактування результатів експериментального дослідження надтонких металевих плівок.	uk_UA
dc.description.abstract	The problems of ultrathin stable electrically continuous metal films fabrication and their electron transport properties investigation were discussed. The surfactant underlayers utilizing to prevent the coagulation process of metal grains during metal film condensation has been discussed. The analyzed modern theoretical views on electron transport properties of metal film have been reviewed. The experimental data are explained within the framework of modern theoretical models.	uk_UA
dc.language.iso	ru	uk_UA
dc.publisher	Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Хімія, фізика та технологія поверхні
dc.title	Влияние поверхности на перенос заряда в тонких металлических пленках на основе непереходных металлов	uk_UA
dc.title.alternative	Вплив поверхні на перенесення заряду в тонких металевих плівках на основі неперехідних металів	uk_UA
dc.title.alternative	Effect of Surface on Charge Transfer in Metall Thin-Films Based on Intransitive Metals	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA
dc.identifier.udc	539.2+537.2