Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Modeling of the substrate cooling system in the installation for the deposition of coatings by the gas plasma method

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Martynov, S.O.
dc.contributor.author Luchaninov, O.A.
dc.contributor.author Lukyanova, V.P.
dc.contributor.author Prokhorets, S.I.
dc.contributor.author Slabospytska, O.O.
dc.contributor.author Khazhmuradov, M.A.
dc.date.accessioned 2023-12-10T16:54:28Z
dc.date.available 2023-12-10T16:54:28Z
dc.date.issued 2023
dc.identifier.citation Modeling of the substrate cooling system in the installation for the deposition of coatings by the gas plasma method / S.O. Martynov, O.A. Luchaninov, V.P. Lukyanova, S.I. Prokhorets, O.O. Slabospytska, M.A. Khazhmuradov // Problems of Atomic Science and Technology. — 2023. — № 3. — С. 72-75. — Бібліогр.: 2 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.other PACS: 52.77.Fv; 81.15.Rs; 47.11.Df
dc.identifier.other DOI: https://doi.org/10.46813/2023-145-072
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/196143
dc.description.abstract The efficiency of diamond coating synthesis depends on both the parameters of the plasma flow and the uniform temperature distribution on the surface of the substrate on which the coating is synthesized. Mathematical modeling of the substrate cooling system in the installation for the deposition of coatings by the gas plasma method was carried out in order to find optimal parameters at which high density and radial uniformity of energy and chemically active particle flows are simultaneously achieved on the substrate in the process of synthesis of diamond coatings. The task was solved by direct search methods using the FlowSimulation module of the SolidWorks package. uk_UA
dc.description.abstract Ефективність синтезу алмазного покриття залежить від параметрів плазмового потоку й однорідного розподілу температури на поверхні підложки, на якій здійснюється синтез покриття. Проведено математичне моделювання системи охолодження підложки в установці для осадження покриттів газоплазмовим методом з метою знаходження оптимальних параметрів, при яких як висока щільність, так і радіальна однорідність енергії і хімічно активних потоків частинок одночасно досягаються на підложки в процесі синтезу алмазних покриттів. Завдання вирішувалося методами прямого пошуку із використанням модуля FlowSimulation пакета SolidWorks. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Problems of Atomic Science and Technology
dc.subject Computational and model systems uk_UA
dc.title Modeling of the substrate cooling system in the installation for the deposition of coatings by the gas plasma method uk_UA
dc.title.alternative Моделювання системи охолодження підложки в установці для осадження покриттів газоплазмовим методом uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис