Vacuum CVD coatings Ta on target W plate of neutrons source

Abstract

The paper presents data on the creation of a tungsten target, protected from corrosion under irradiation with a power of up to 100 kW. A protective coating of tantalum with a thickness of 250 µm was deposited on the surface of tungsten plates 66x66 mm, thickness 10; 6; 4; 3 mm. The coating has a solid-phase compound over the entire surface of tungsten and is hermetic. This was achieved by CVD (chemical vapor deposition) tantalum deposition in a vacuum of 2.66·10⁻² Pa on a plate surface heated to ~ 1700 K using the thermal dissociation reaction of tantalum pentachloride vapor. Such tungsten plates, equipped with tantalum coatings with desired properties, were used in the Neutron Source installation of the NSC KIPT.

Представлені матеріали з створення вольфрамової мішені, захищеної від корозії під опроміненням потужністю до 100 кВт. Захисне покриття з танталу товщиною 250 мкм було нанесено на поверхню вольфрамових пластин розміром 66х66 мм, відповідно товщиною 10; 6; 4; 3 мм. Покриття має твердофазне з'єднання по всій поверхні вольфраму та є герметичним. Зазначене було досягнуто шляхом осадження танталу методом CVD (хімічне осадження з газової фази) у вакуумі 2,66·10⁻² Па на поверхні пластини, що нагріли до ~ 1700 К з використанням реакції термічної дисоціації парів пентахлориду танталу. Такі пластини вольфраму, забезпечені покриттями танталу із заданими властивостями, використані в установці «Джерело нейтронів» ННЦ ХФТІ.

Представлены материалы по созданию вольфрамовой мишени, защищенной от коррозии под облучением мощностью до 100 кВт. Защитное покрытие из тантала толщиной 250 мкм было нанесено на поверхность вольфрамовых пластин размером 66х66 мм, соответственно толщиной 10; 6; 4; 3 мм. Покрытие имеет твердофазное соединение по всей поверхности вольфрама и является герметичным. Указанное было достигнуто путем осаждения тантала методом CVD (химического осаждения из газовой фазы) в вакууме 2,66·10⁻² Па на нагретой до ~ 1700 К поверхности пластины с использованием реакции термической диссоциации паров пентахлорида тантала. Такие пластины вольфрама, снабженные покрытиями тантала с заданными свойствами, использованы в установке «Источник нейтронов» ННЦ ХФТИ.