Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення ядерної фізики та енергетики
→
Вопросы атомной науки и техники
→
Problems of Atomic Science and Technology, 2019
→
Problems of Atomic Science and Technology, 2019, № 5
→
Переглянути статтю

dc.contributor.author	Kuprin, A.S.
dc.contributor.author	Leonov, S.A.
dc.contributor.author	Ovcharenko, V.D.
dc.contributor.author	Reshetnyak, E.N.
dc.contributor.author	Belous, V.A.
dc.contributor.author	Vasilenko, R.L.
dc.contributor.author	Tolmachova, G.N.
dc.contributor.author	Kovalenko, V.I.
dc.contributor.author	Klimenko, I.O.
dc.date.accessioned	2023-12-03T15:30:52Z
dc.date.available	2023-12-03T15:30:52Z
dc.date.issued	2019
dc.identifier.citation	Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage / A.S. Kuprin, S.A. Leonov, V.D. Ovcharenko, E.N. Reshetnyak, V.A. Belous, R.L. Vasilenko, G.N. Tolmachova, V.I. Kovalenko, I.O. Klimenko // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 5. — С. 154-160. — Бібліогр.: 29 назв. — англ.	uk_UA
dc.identifier.issn	1562-6016
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/195216
dc.description.abstract	The paper presents the results of the study on the influence of a high substrate bias voltage from 300 up to 1300 V on the titanium nitride coating deposition under nitrogen pressure of 2 Pa. The deposition rate, phase and chemical composition, adhesion and mechanical properties of coatings, macroparticle number and size distribution were investigated.	uk_UA
dc.description.abstract	Представлені результати дослідження впливу високої напруги зсуву підкладки від 300 до 1300 В на осадження покриттів нітриду титану при тиску азоту 2 Па. Вивчені швидкість осадження, фазовий і хімічний склад, адгезія і механічні властивості покриттів, кількість і розподіл за розмірами макрочасток.	uk_UA
dc.description.abstract	Представлены результаты исследования влияния высокого напряжения смещения подложки от 300 до 1300 В на осаждение покрытий нитрида титана при давлении азота 2 Па. Изучены скорость осаждения, фазовый и химический составы, адгезия и механические свойства покрытий, количество и распределение по размерам макрочастиц.	uk_UA
dc.language.iso	en	uk_UA
dc.publisher	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Вопросы атомной науки и техники
dc.subject	Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies	uk_UA
dc.title	Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage	uk_UA
dc.title.alternative	Осадження TiN-покриттів з використанням вакуумно-дугової плазми при підвищеній негативній напрузі підкладки	uk_UA
dc.title.alternative	Осаждение TiN-покрытий с использованием вакуумно-дуговой плазмы при повышенном отрицательном напряжении подложки	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA
dc.identifier.udc	669.056.9