Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Features of helium complexes behaviour near the free surface in tungsten

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Starchenko, I.V.
dc.contributor.author Sadanov, E.V.
dc.date.accessioned 2023-12-01T16:10:15Z
dc.date.available 2023-12-01T16:10:15Z
dc.date.issued 2019
dc.identifier.citation Features of helium complexes behaviour near the free surface in tungsten / I.V. Starchenko, E.V. Sadanov // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 2. — С. 3-6. — Бібліогр.: 21 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.other PACS: 68.35.-p
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194935
dc.description.abstract The formation of interstitial atoms by lattice tungsten atoms displacement by clusters of implanted helium, which is accompanied with the appearance of helium-vacancy complexes, was found. The stimulating effect of the free surface on the development of the processes of displacement and dissociation of complexes has been revealed. It is shown that this influence is caused by the action of image forces. The depth of the image forces was determined, which was about 2.5 nm. uk_UA
dc.description.abstract Виявлено формування міжвузельних атомів шляхом витіснення граткових атомів вольфраму кластерами імплантованого гелію, яке супроводжується появою гелій-вакансійних комплексів. Виявлено стимулюючий вплив вільної поверхні на розвиток процесів витіснення і дисоціації комплексів. Показано, що цей вплив викликано дією сил зображення. Визначена глибина дії сил зображення, що склала близько 2,5 нм. uk_UA
dc.description.abstract Обнаружено образование межузельных атомов путем вытеснения решеточных атомов вольфрама кластерами имплантированного гелия, которое сопровождается появлением гелий-вакaнсионных комплексов. Выявлено стимулирующее влияние свободной поверхности на развитие процессов вытеснения и диссоциации комплексов. Показано, что это влияние вызвано действием сил изображения. Определена глубина действия сил изображения, которая составила около 2,5 нм. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Physics of radiation damages and effects in solids uk_UA
dc.title Features of helium complexes behaviour near the free surface in tungsten uk_UA
dc.title.alternative Особливості поведінки гелієвих комплексів біля вільної поверхні у вольфрамі uk_UA
dc.title.alternative Особенности поведения гелиевых комплексов вблизи свободной поверхности в вольфраме uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис