Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Zykov, A.
dc.contributor.author Yefymenko, N.
dc.contributor.author Dudin, S.
dc.contributor.author Yakovin, S.
dc.date.accessioned 2023-11-28T13:44:34Z
dc.date.available 2023-11-28T13:44:34Z
dc.date.issued 2020
dc.identifier.citation Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system / A. Zykov, N. Yefymenko, S. Dudin, S. Yakovin // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 6. — С. 169-173. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.other PACS: 52.77.-j, 81.15.-z
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194668
dc.description.abstract The discharge characteristics of a new combined low energy magnetron-ion-source sputtering system are presented. The ignition curves, current-voltage characteristics of the system in dependence on gas pressure, magnitude and topology of magnetic field have been researched both for autonomous operation of the planar magnetron discharge and Hall type ion source in plasma mode and for their combination. Spatial distributions of ion current are also presented. uk_UA
dc.description.abstract Проведено дослідження розрядних характеристик нової комбінованої низькоенергетичної іоннопроменевої магнетронної розпорошувальної системи з питомими параметрами, які відповідають промисловому виробництву. Досліджено криві запалювання, розрядні характеристики в залежності від тиску робочого газу, величини та топології магнітного поля як при автономній, так і при сумісній роботі планарного магнетронного розряду та джерела іонів холлівського типу у плазмовому режимі. Досліджені просторові розподіли потоків іонів. uk_UA
dc.description.abstract Проведены исследования разрядных характеристик новой комбинированной низкоэнергетичной ионнолучевой магнетронной распылительной системы с удельными параметрами, отвечающими требованиям промышленного производства. Исследованы кривые зажигания, разрядные характеристики в зависимости от давления рабочего газа, величины и топологии магнитного поля как при автономной, так и при совместной работе планарного магнетронного разряда и источника ионов холловского типа в плазменном режиме. Исследованы пространственные характеристики потоков ионов. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Low temperature plasma and plasma technologies uk_UA
dc.title Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system uk_UA
dc.title.alternative Розрядні характеристики комбінованої hизькоенергетичної іонно-променевої магнетронної розпорошувальної системи uk_UA
dc.title.alternative Разрядные характеристики комбинированной hизкоэнергетичной ионно-лучевой магнетронной распылительной системы uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис