Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Bizyukov, A.A.
dc.contributor.author Tarasov, I.K.
dc.contributor.author Chibisov, A.D.
dc.date.accessioned 2023-11-28T09:52:25Z
dc.date.available 2023-11-28T09:52:25Z
dc.date.issued 2019
dc.identifier.citation Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation / A.A. Bizyukov, I.K. Tarasov, A.D. Chibisov // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 124-126. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.other PACS: 52.40.hf
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194631
dc.description.abstract The possibility of using a magnetic mirror in the output gap of ion source with a closed electron drift to generating of an additional gas discharge by using the electron-cyclotron resonance to compensate of the ion beam space charge is studied. The first experiments have shown that an additional microwave discharge generated in the region of the annular gap when the microwave power is applied. An additional plasma source of electrons provides the maintenance and intensification of the gas discharge in the accelerator with an anode layer. uk_UA
dc.description.abstract Вивчено можливість використання пастки пробочного типу у вихідному зазорі джерела іонів із замкнутим електронним дрейфом для генерації додаткового газового розряду з використанням електронно-циклотронного резонансу та компенсації просторового заряду іонного пучка. Перші експерименти показали, що генерується додатковий НВЧ-розряд в області кільцевого зазору при подачі НВЧ-потужності. Додаткове плазмове джерело електронів забезпечує підтримку та інтенсифікацію газового розряду в прискорювачі з анодним шаром. uk_UA
dc.description.abstract Изучена возможность использования ловушки пробочного типа в выходном зазоре источника ионов с замкнутым электронным дрейфом для генерации дополнительного газового разряда с использованием электронно-циклотронного резонанса и компенсации пространственного заряда ионного пучка. Первые эксперименты показали, что генерируется дополнительный СВЧ-разряд в области кольцевого зазора при подаче СВЧ-мощности. Дополнительный плазменный источник электронов обеспечивает поддержание и интенсификацию газового разряда в ускорителе с анодным слоем. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Low temperature plasma and plasma technologies uk_UA
dc.title Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation uk_UA
dc.title.alternative Використання електронно-циклотронного резонансного розряду для компенсації об'ємного заряду в іонно-променевих розпилювальних системах uk_UA
dc.title.alternative Использование электронно-циклотронного резонансного разряда для компенсации объемного заряда в ионно-лучевых распылительных системах uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис