Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Михальская, С.И.
dc.contributor.author Порецкая, Е.И.
dc.contributor.author Сергеева, Л.Е.
dc.date.accessioned 2011-04-11T19:23:29Z
dc.date.available 2011-04-11T19:23:29Z
dc.date.issued 2009
dc.identifier.citation Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне / С.И. Михальская, Е.И. Порецкая, Л.Е. Сергеева // Вісник Українського товариства генетиків і селекціонерів. — 2009. — Т. 7, № 1. — С. 74-81. — Бібліогр.: 26 назв. — рос. uk_UA
dc.identifier.issn 1810-7834
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/18884
dc.description.abstract В W-устойчивой клеточной линии сои, которую культивировали в присутствии анионов WO4^2-; VO3^-; ClO3^- и на контрольной среде изучали динамику содержания уровня свободного пролина. Селективные среды с ионами вольфрама или ванадия содержали только нитраты; селективные среды с KClO3 содержали либо нитратную, либо аммиачную форму азота. Уровень свободного пролина в клетках при культивировании в стрессовых условиях превышал контрольный показатель от 1,5 до 4,9 раз. Однако комплексная устойчивость линии сои связана скорее с реализацией зависимых от условий культивирования механизмов его синтеза/деградации, отражающейся в различном характере колебаний уровня свободного пролина. uk_UA
dc.description.abstract У W-стійкої клітинної лінії сої, яку культивували в присутності аніонів WO4^2-; VO3^-; ClO3^- та на контрольному середовищі досліджували динаміку вмісту рівня вільного проліну. Селективні середовища з іонами вольфраму або ванадію містили лише нітрати; селективні середовища з KClO3 містили або нітратну, або аміачну форму азоту. Рівень вільного проліну в клітинах при культивуванні за стресових умов перевищував контрольний показник від 1,5 до 4,9 разів. Однак, комплексна стійкість лінії сої пов’язана скоріше з реалізацією залежних від умов культивування механізмів синтезу/деградації, яка відображається в різному характері коливань рівня вільного проліну. uk_UA
dc.description.abstract There was investigated the free proline levels fluctuations in calli of the W-resistant soybean cell line, cultivated at presence of WO4^2-; VO3^-; ClO3^- anions and on the control medium. Selective media with tungsten or vanadium ions contained only nitrates, where as selective media with KClO3 contained either nitrates or ammonium forms of nitrogen. The cell free proline levels during cultivation under stress conditions were from 1,5 to 4,9 times higher than the control one was. However, the cell combined stress resistance is rather reflected through various types of proline level fluctuations. The lasts are the result of the developed condition-dependent mechanisms of the proline synthesis/degradation. uk_UA
dc.language.iso ru uk_UA
dc.publisher Українське товариство генетиків і селекціонерів ім. М.І. Вавилова uk_UA
dc.relation.ispartof Вісник Українського товариства генетиків і селекціонерів
dc.subject Оригінальні статті uk_UA
dc.title Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне uk_UA
dc.title.alternative Варіювання рівня вільного проліну у W-стійкої клітинної лінії сої при культивуванні на різному стресовому фоні uk_UA
dc.title.alternative The free-proline level variation in the W-resistant soybean cell line during cultivation under various stress conditions uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA
dc.identifier.udc 581.196.143.6


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис