Безструмовий синтез CrSi₂ на поверхні хрому в розплавах солей

Abstract

Здійснено безструмове осадження покриттів дисиліциду хрому на поверхні металічного хрому із хлоридно-фторидних кремнійвмісних розплавів у присутності елементарного кремнію. Методом електронної мікроскопії та рентгенофазового аналізу досліджено структуру отриманих покриттів. Параметри кристалічної гратки, а =4.35072, с =6.3544 Å , можна віднести до гексагональної фази CrSi₂. Методами диференціальної скануючої калориметрії і термогравіметричного аналізу вивченo стійкість одержаних осадів до окиснення на повітрі при високих температурах.

Реализовано бестоковое осаждение покрытий дисилицида хрома на поверхности металлического хрома из хлоридно-фторидных кремнийсодержащих расплавов в присутствии элементарного кремния. Методом электронной микроскопии и рентгенофазового анализа исследована структура этих покрытий. Параметры кристаллической решетки, а =4.35072, с =6.3544 Å , можно отнести к гексагональной фазе CrSi₂. Методами дифференциальной сканирующей калориметрии и термогравиметрического анализа изучена устойчивость полученных осадков к окислению на воздухе при повышенных температурах.

Currentless deposition of chromium disilicide coating onto the surface of metallic chromium from chloride-fluoride silicon containing melts in the presence of elemental silicon was studied. Electron microscopy and X-ray powder diffraction was used to study the structure of coatings obtained. The lattice parameters are а =4.35072, с =6.3544 Å , indicated the hexagonal CrSi₂. The stability of the obtained deposits to oxidation in air at elevated temperatures was studied by differential scanning calorimetry and thermogravimetric analysis methods.