Электронная фокусировка в слоистых проводниках

Abstract

Теоретически исследованы эффекты электронной фокусировки (ЭФ) в слоистом металле, ферми-по- верхность которого представляет собой слабо гофрированный цилиндр. Предсказаны особенности в зависи­ мости сигнала на измерительном контакте от магнитного поля, отсутствующие в изотропных проводниках. Показано, что форма линий продольной и поперечной ЭФ чрезвычайно чувствительна к соотношению между диаметром микроконтакта и малым размером электронной траектории в перпендикулярном слоям направлении.

Теоретично досліджено ефекти електронного фокусування (ЕФ) в шаруватому металі, фермі-поверхня якого являє собою слабко гофрирований циліндр. Передбачено особливості в залежності сигналу на вимірю­ вальному контакті від магнітного поля, відсутні у ізотропних провідниках. Показано, що форма ліній поздов­ жньої і поперечної ЕФ надзвичайно чутлива до співвідношення між діаметром мікроконтакту і малим розміром електронної траєкторії у перпендикулярному до шарів напряму.

A theoretical study has been made of effects of elec­ tron focusing (EF) in the layered metal whose Fermi- surface is a slightly-corrugated cylinder. The peculiari­ ties are predicted of the signal of measuring contact (junction) vs magnetic field curve, which are not present in isotropic conductors. The shape of the longitudinal and transverse, EF lines is shown to be very sensitive to a ration between the microcontact diameter and small­ sized electron trajectory in the direction perpendicular to the layers.