Разработка и исследование макета низкочастотного источника питания сильноточного импульсного магнетронного разряда

Abstract

В работе решалась задача создания импульсного источника питания разряда, совместимого с технологическими плазменными устройствами магнетронного типа, имеющими несбалансированную магнитную систему. Целью работы было создание схемы модуляции разрядного напряжения разряда магнетрона, основанной на недорогих, доступных электронных компонентах. Рассматриваются возможности реализации комплексной технологии поверхностной обработки, базирующиеся на использовании импульсного потока энергетичной газометаллической плазмы, генерируемого аномальным тлеющим разрядом с замкнутым дрейфом электронов.

В роботі вирішувалася задача створення імпульсного джерела живлення розряду, сумісного з технологічними плазмовими пристроями магнетронного типу, що мають незбалансовану магнітну систему. Метою роботи було розроблення схеми модуляції розрядного струму магнетрона, що заснована на недорогих, доступних електронних компонентах. Розглядаються можливості реалізації комплексної технології поверхневої обробки, що базуються на використанні імпульсного потоку енергетичної газометалевої плазми, що генерується аномальним тліючим розрядом із замкнутим дрейфом електронів.

This paper addresses the problem of the development of a discharge power source compatible with plasma magnetron-type process devices with an unbalanced magnetic system. The aim of the work was to develop a circuit for magnetron discharge voltage modulation based on inexpensive electron components. Consideration is given to possibilities of implementing a package surface treatment technology using a pulsed flow of an energetic gas–metal plasma generated by an anomalous glow discharge with closed electron drift.