Progress in riboon ion beam implantation systems development

Abstract

The ribbon ion sources for ion implantation are under developing in ITEP during last 5 years. The several versions of Bernas ion source are used for ribbon ion beam production. The beam transport for low energy ribbon beam is one of main problems for ion implantation. The progress in ion sources and transport lines development is discussed in this paper. The new results for carboran clusters ion beam driving are presented.

Последние пять лет в ИТЭФ разрабатываются источники ленточных ионных пучков для нужд ионной имплантации. Для генерации ленточного ионного пучка используются источники типа «Бернас». Одной из самых существенных проблем при создании таких систем является разработка каналов транспортировки пучка. В данной статье рассматриваются новые результаты, полученные при разработке источников и каналов транспортировки, приведены данные по генерации пучков многоатомных молекул карборана.

Останні п’ять років в ІТЕФ розробляються джерела стрічкових іонних пучків для потреб іонної імплантації. Для генерації стрічкового іонного пучка використовуються джерела типу «Бернас». Однією з найбільш істотних проблем при створенні таких систем є розробка каналів транспортування пучка. У даній статті розглядаються нові результати, отримані при розробці джерел і каналів транспортування, наведено дані по генерації пучків багатоатомних молекул карборана.