Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Сидоренко, С.І. |
|
dc.contributor.author |
Волошко, С.М. |
|
dc.contributor.author |
Міщук, О.О. |
|
dc.contributor.author |
Тинькова, А.А. |
|
dc.date.accessioned |
2020-04-05T20:11:58Z |
|
dc.date.available |
2020-04-05T20:11:58Z |
|
dc.date.issued |
2012 |
|
dc.identifier.citation |
Вплив середовища відпалу на швидкість дифузії ніклю до поверхні тонкоплівкової системи Au/Ni / С.І. Сидоренко, С.М. Волошко, О.О. Міщук, А.А. Тинькова // Металлофизика и новейшие технологии. — 2012. — Т. 34, № 1. — С. 65-76. — Бібліогр.: 13 назв. — укр. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
1024-1809 |
|
dc.identifier.other |
PACS numbers: 61.72.Cc, 68.35.Fx,68.37.Ps,68.49.Sf,68.55.jd,82.80.Ms, 82.80.Pv |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/167704 |
|
dc.description.abstract |
За даними мас-спектрометрії вторинних йонів, електронної Оже-спектроскопії, Рентґенової дифракції, оптичної та атомово-силової мікроскопії досліджено інтенсивність розвитку дифузійних процесів і зміни морфології поверхні в системі Au (120 нм)/Ni (70 нм) за умов відпалу за температури 200 °C впродовж 20 хв. у вакуумній камері за різних значень тиску залишкової атмосфери (10⁻³ Па і 10⁻⁶ Па) та в середовищі водню під тиском у 5∙10² Па. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
По данным масс-спектрометрии вторичных ионов, электронной ожеспектроскопии, рентгеновской дифракции, оптической и атомно-силовой микроскопии исследованы интенсивность развития диффузионных процессов и изменения морфологии поверхности в системе Au (120 нм)/Ni (70 нм) в условиях отжига при температуре 200°C на протяжении 20 мин. в вакуумной камере при различных значениях давления остаточной атмосферы (10⁻³ Па и 10⁻⁶ Па) и в среде водорода при давлении 5∙10² Па. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Development of the interdiffusion processes and surface-morphology changes in Au (120 nm)/Ni (70 nm) system are studied during 20 min heating at 200°C in a vacuum with different residual atmosphere pressure (10⁻³ and 10⁻⁶ Pa) and in the ambient of hydrogen at pressure of 5∙10² Pa according to the data of the secondary ion mass-spectrometry (SIMS), Auger electron spectroscopy (AES), x-ray diffraction, optical and atomic force microscopy. |
uk_UA |
dc.language.iso |
uk |
uk_UA |
dc.publisher |
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Металлофизика и новейшие технологии |
|
dc.subject |
Металлические поверхности и плёнки |
uk_UA |
dc.title |
Вплив середовища відпалу на швидкість дифузії ніклю до поверхні тонкоплівкової системи Au/Ni |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Влияние среды отжига на скорость диффузии никеля к поверхности тонкоплёночной системы Au/Ni |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Influence of Annealing Environment on the Ni Diffusion Rate to Surface of the Thin-Film Au/Ni System |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті