Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Вплив середовища відпалу на швидкість дифузії ніклю до поверхні тонкоплівкової системи Au/Ni

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Сидоренко, С.І.
dc.contributor.author Волошко, С.М.
dc.contributor.author Міщук, О.О.
dc.contributor.author Тинькова, А.А.
dc.date.accessioned 2020-04-05T20:11:58Z
dc.date.available 2020-04-05T20:11:58Z
dc.date.issued 2012
dc.identifier.citation Вплив середовища відпалу на швидкість дифузії ніклю до поверхні тонкоплівкової системи Au/Ni / С.І. Сидоренко, С.М. Волошко, О.О. Міщук, А.А. Тинькова // Металлофизика и новейшие технологии. — 2012. — Т. 34, № 1. — С. 65-76. — Бібліогр.: 13 назв. — укр. uk_UA
dc.identifier.issn 1024-1809
dc.identifier.other PACS numbers: 61.72.Cc, 68.35.Fx,68.37.Ps,68.49.Sf,68.55.jd,82.80.Ms, 82.80.Pv
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/167704
dc.description.abstract За даними мас-спектрометрії вторинних йонів, електронної Оже-спектроскопії, Рентґенової дифракції, оптичної та атомово-силової мікроскопії досліджено інтенсивність розвитку дифузійних процесів і зміни морфології поверхні в системі Au (120 нм)/Ni (70 нм) за умов відпалу за температури 200 °C впродовж 20 хв. у вакуумній камері за різних значень тиску залишкової атмосфери (10⁻³ Па і 10⁻⁶ Па) та в середовищі водню під тиском у 5∙10² Па. uk_UA
dc.description.abstract По данным масс-спектрометрии вторичных ионов, электронной ожеспектроскопии, рентгеновской дифракции, оптической и атомно-силовой микроскопии исследованы интенсивность развития диффузионных процессов и изменения морфологии поверхности в системе Au (120 нм)/Ni (70 нм) в условиях отжига при температуре 200°C на протяжении 20 мин. в вакуумной камере при различных значениях давления остаточной атмосферы (10⁻³ Па и 10⁻⁶ Па) и в среде водорода при давлении 5∙10² Па. uk_UA
dc.description.abstract Development of the interdiffusion processes and surface-morphology changes in Au (120 nm)/Ni (70 nm) system are studied during 20 min heating at 200°C in a vacuum with different residual atmosphere pressure (10⁻³ and 10⁻⁶ Pa) and in the ambient of hydrogen at pressure of 5∙10² Pa according to the data of the secondary ion mass-spectrometry (SIMS), Auger electron spectroscopy (AES), x-ray diffraction, optical and atomic force microscopy. uk_UA
dc.language.iso uk uk_UA
dc.publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Металлофизика и новейшие технологии
dc.subject Металлические поверхности и плёнки uk_UA
dc.title Вплив середовища відпалу на швидкість дифузії ніклю до поверхні тонкоплівкової системи Au/Ni uk_UA
dc.title.alternative Влияние среды отжига на скорость диффузии никеля к поверхности тонкоплёночной системы Au/Ni uk_UA
dc.title.alternative Influence of Annealing Environment on the Ni Diffusion Rate to Surface of the Thin-Film Au/Ni System uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис