Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Определение факторов радиационного воздействия ускоренных электронов и тормозного излучения на полупроводниковые материалы

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Маслов, Н.И.
dc.date.accessioned 2011-01-31T16:31:46Z
dc.date.available 2011-01-31T16:31:46Z
dc.date.issued 2010
dc.identifier.citation Определение факторов радиационного воздействия ускоренных электронов и тормозного излучения на полупроводниковые материалы / Н.И. Маслов // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 2. — С. 168-172. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/15713
dc.description.abstract Образование стабильных дефектов в облучаемых материалах зависит не только от концентрации первичных радиационных повреждений, но и от распределения их в объёме материала. Распределение первичных радиационных повреждений в объёме вещества определяется энергией первично выбитых атомов (ПВА). В зависимости от величины полученной энергии Т, первично выбитый атом может образовать либо изолированную пару Френкеля (устойчивую или неустойчивую), либо каскадную область смещений. В кремнии при развитии каскада смещений от ПВА с энергией ≥ 10 кэВ образуется крупное стабильное структурное нарушение, называемое область разупорядочения. Область разупорядочения оказывает существенное влияние на электрофизические параметры полупроводников. Приводятся результаты исследований воздействия на кремний электронов и фотонов в широком интервале энергий и метод определения доли повреждений, входящих в каскадные области смещений. uk_UA
dc.description.abstract Утворення стабільних дефектів в матеріалах, що опромінюють, залежить не тільки від концентрації первинних радіаційних ушкоджень, але й від розподілу їх в обсязі матеріалу. Розподіл первинних радіаційних ушкоджень в обсязі речовини визначається енергією первинно вибитих атомів (ПВА). Залежно від величини отриманої енергії Т, первинно вибитий атом може утворити або ізольовану пару Френкеля (стійку або нестійку), або каскадну зону зсувів. У кремнії при розвитку каскаду зсувів від ПВА з енергією ≥ 10 кеВ утворюється велике стабільне структурне порушення, що називають зоною розупорядкування. Зона розупорядкування має значний вплив на електрофізичні параметри напівпровідників. Приводяться результати досліджень впливу на кремній електронів і фотонів у широкому інтервалі енергій та запропонований метод визначення частки ушкоджень, що входять у каскадні зони зсувів. uk_UA
dc.description.abstract The formation of stable defects in irradiated materials depends not only on a concentration of primary radiation damages, but also from distribution them in a material volume. The distribution of primary radiation damages in a material volume is determined by energy of primary displaced atoms (PDА). Depending on value of the obtained energy Т, PDА can create or insulated Frankel pair (steady or unstable), or cascade area of displacements. In silicon at development of the displacements cascade from PDА with energy ≥10 кэВ the large stable structural damaging is created called as disorder area. The disorder area renders essential influencing on physical properties of semiconductors. In the given activity the researches of silicon damaging by electrons and photons in a wide energy rang are presented and the method of definition of a damages percentage which are included in of cascade area of displacement was proposed. uk_UA
dc.language.iso ru uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.subject Применение ускорителей uk_UA
dc.title Определение факторов радиационного воздействия ускоренных электронов и тормозного излучения на полупроводниковые материалы uk_UA
dc.title.alternative Визначення факторів радіаційного впливу прискорених електронів і гальмового випромінювання на напівпровідникові матеріали uk_UA
dc.title.alternative Definition of the radiation demaging factors of accelerated electrons and bremsstrahlung on semiconductor materials uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA
dc.identifier.udc 621.039.564


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис