Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Марченко, Ю.А.
dc.contributor.author Перун, Н.В.
dc.contributor.author Сасса, И.В.
dc.contributor.author Ванжа, А.Ф.
dc.date.accessioned 2011-01-31T12:06:17Z
dc.date.available 2011-01-31T12:06:17Z
dc.date.issued 2010
dc.identifier.citation Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2 / Ю.А. Марченко, Н.В. Перун, И.В. Сасса, А.Ф. Ванжа // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 1. — С. 157-160. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/15671
dc.description.abstract Описаны конструкция и особенности плазменного разряда источника ионов с подогреваемым катодом, предназначенного для использования на технологической установке ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2. Приведены зависимости тока пучка от параметров разряда. uk_UA
dc.description.abstract Описано конструкція та особливості плазмового розряду джерела іонів з катодом, що підігрівається, який призначено для використання на технологічній установці іонно-стимулюючого осадження покриттів АРГО-2. Приведені залежності струму пучка від параметрів розряду. uk_UA
dc.description.abstract Construction and structural features of plasma discharge of ions source with heated cathode is described. This source intended is used in technological plant ARGO-2 for the ion-stimulated deposition of coatings. Dependences of beam current on the discharge parameters are presented. uk_UA
dc.language.iso ru uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.subject Диагностика и методы исследований uk_UA
dc.title Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2 uk_UA
dc.title.alternative Джерело іонів для установки іонно-стимулюючого осадження покриттів АРГО-2 uk_UA
dc.title.alternative Ions source for plan ARGO-2 for the ion-stimulated deposition of coatings uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA
dc.identifier.udc 621.384.6:620.198


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис