Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Марченко, Ю.А. |
|
dc.contributor.author |
Перун, Н.В. |
|
dc.contributor.author |
Сасса, И.В. |
|
dc.contributor.author |
Ванжа, А.Ф. |
|
dc.date.accessioned |
2011-01-31T12:06:17Z |
|
dc.date.available |
2011-01-31T12:06:17Z |
|
dc.date.issued |
2010 |
|
dc.identifier.citation |
Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2 / Ю.А. Марченко, Н.В. Перун, И.В. Сасса, А.Ф. Ванжа // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 1. — С. 157-160. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
1562-6016 |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/15671 |
|
dc.description.abstract |
Описаны конструкция и особенности плазменного разряда источника ионов с подогреваемым катодом, предназначенного для использования на технологической установке ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2. Приведены зависимости тока пучка от параметров разряда. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Описано конструкція та особливості плазмового розряду джерела іонів з катодом, що підігрівається, який призначено для використання на технологічній установці іонно-стимулюючого осадження покриттів АРГО-2. Приведені залежності струму пучка від параметрів розряду. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Construction and structural features of plasma discharge of ions source with heated cathode is described. This source intended is used in technological plant ARGO-2 for the ion-stimulated deposition of coatings. Dependences of beam current on the discharge parameters are presented. |
uk_UA |
dc.language.iso |
ru |
uk_UA |
dc.publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
uk_UA |
dc.subject |
Диагностика и методы исследований |
uk_UA |
dc.title |
Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2 |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Джерело іонів для установки іонно-стимулюючого осадження покриттів АРГО-2 |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Ions source for plan ARGO-2 for the ion-stimulated deposition of coatings |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
dc.identifier.udc |
621.384.6:620.198 |
|
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті