Плазмонна спектроскопія поверхні плівок перехідних металів після низькоенергетичного йонного впливу

Abstract

Вперше плазмонну спектроскопію застосовано для аналізи поверхні нанорозмірних плівок перехідних металів. Досліджувалися моно- та багатошарові системи, одержані електронно-променевою методою осадження в надвисокому вакуумі у 10⁻⁷ Па.

Впервые плазмонная спектроскопия применена для анализа поверхности наноразмерных плёнок переходных металлов. Исследовались моно- и многослойные системы, полученные электронно-лучевым методом осаждения в сверхвысоком вакууме 10⁻⁷ Па.

Plasmon spectroscopy is first used to analyse the nanoscale-films’ surface of the transition metals. A detailed analysis of the plasmon energy loss spectra of primary electrons in the 50–600 eV range is carried out for surface layers of the nanoscale multilayer thin-film Ni(25 nm)/Cu(25 nm)/Cr(25 nm)/Si(001), Ni(25 nm)/Cu(25 nm)/V(25 nm)/Si(001) and V(25 nm)/Si(001) systems bombarded with low-energy Ar+ ions and then held in a pure oxygen atmosphere. The mono- and multilayer systems obtained by the electron-beam deposition method in an ultrahigh vacuum of 10⁻⁷ Pa are investigated.