Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Dudin, S.
dc.contributor.author Tkachenko, O.
dc.contributor.author Shchybria, A.
dc.contributor.author Yakovin, S.
dc.contributor.author Zykov, A.
dc.contributor.author Yefymenko, N.
dc.date.accessioned 2019-02-19T15:03:38Z
dc.date.available 2019-02-19T15:03:38Z
dc.date.issued 2018
dc.identifier.citation Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system / S. Dudin, O. Tkachenko, A. Shchybria, S. Yakovin, A. Zykov, N. Yefymenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 6. — С. 263-266. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.other PACS: 52.77.-j, 81.15.-z
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/149063
dc.description.abstract The design and characteristics of a new combined magnetron-ion-beam sputtering system are presented. The system allows coating deposition both by means of magnetron discharge, and by sputtering of complex composite targets by high-energy ion beam. Computer simulation and optimization of magnetic field topology on the system, which is common for the magnetron discharge and the Hall-type ion source, have been carried out. The ignition curves, current-voltage characteristics of the system, in dependence on gas type and pressure, magnitude and topology of magnetic field have been researched both for autonomous operation of the planar magnetron discharge and ion source and for their combination. Spatial distributions of ion current are also presented. uk_UA
dc.description.abstract Розроблено та досліджено характеристики нової комбінованої магнетронно-іонно-променевої розпорошувальної системи з питомими параметрами, які відповідають промисловому виробництву. Система дозволяє наносити покриття як за допомогою магнетронного розряду, так і шляхом перерозпорошення складнокомпозиційних мішеней високоенергетичним іонним пучком. Досліджено криві запалювання, розрядні характеристики в залежності від типу та тиску робочого газу, величини та топології магнітного поля як при автономній, так і при сумісній роботі планарного магнетронного розряду та джерела іонів. Досліджені просторові розподіли потоків іонів. uk_UA
dc.description.abstract Разработаны и исследованы характеристики новой комбинированной магнетронно-ионно-лучевой распылительной системы с удельными параметрами, отвечающими требованиям промышленного производства. Система позволяет наносить покрытия как с помощью магнетронного разряда, так и путем перераспыления сложнокомпозиционных мишеней высокоэнергетическим ионным пучком. Исследованы кривые зажигания, разрядные характеристики в зависимости от типа и давления рабочего газа, величины и топологии магнитного поля как при автономной, так и при совместной работе планарного магнетронного разряда и источника ионов. Исследованы пространственные характеристики потоков ионов. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Низкотемпературная плазма и плазменные технологии uk_UA
dc.title Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system uk_UA
dc.title.alternative Розробка та дослідження комбінованої магнетронно-іонно-променевої розпорошувальної системи uk_UA
dc.title.alternative Разработка и исследование комбинированной магнетронно-ионно-лучевой распылительной системы uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис