Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Tolstolutskaya, G.D. |
|
dc.contributor.author |
Kuprin, A.S. |
|
dc.contributor.author |
Voyevodin, V.N. |
|
dc.contributor.author |
Nikitin, A.V. |
|
dc.contributor.author |
Ovcharenko, V.D. |
|
dc.contributor.author |
Belous, V.A. |
|
dc.contributor.author |
Vasilenko, R.L. |
|
dc.contributor.author |
Kopanets, I.E. |
|
dc.date.accessioned |
2018-06-16T06:13:20Z |
|
dc.date.available |
2018-06-16T06:13:20Z |
|
dc.date.issued |
2017 |
|
dc.identifier.citation |
Blistering of W, Ta and W-Ta coatings under the influence of particles of low-energy hydrogen plazma / G.D. Tolstolutskaya, A.S. Kuprin, V.N. Voyevodin, A.V. Nikitin, V.D. Ovcharenko, V.A. Belous, R.L. Vasilenko, I.E. Kopanets // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 5. — С. 83-90. — Бібліогр.: 26 назв. — англ. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
1562-6016 |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/136153 |
|
dc.description.abstract |
The surface topography and deuterium retention in W, Ta and W-Ta coatings under the influence of low-energy deuterium plasma was studied. It was observed formation of blisters as dome and burst or delaminated structures. The W-Ta coatings showed improved characteristics: smaller sizes and density of blisters and a significantly lower thickness of the delaminated layer. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Вивчено зміну топографії поверхонь покриттів W, Ta і W-Ta і вміст дейтерію під дією частинок низькоенергетичної водневої плазми. Спостерігалося утворення блістерів куполоподібної форми, відшарування та лущення. Покриття W-Ta показали поліпшені характеристики: менші розміри і знижену густину блістерів і значно меншу товщину відшарованого шару. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Изучены изменение топографии поверхности покрытий W, Ta и W-Ta и накопление дейтерия под действием частиц низкоэнергетической дейтериевой плазмы. Наблюдалось образование блистеров куполообразной формы, отслаивание и шелушение. Покрытия W-Ta показали улучшенные характеристики: меньшие размеры и плотность блистеров и значительно уменьшенную толщину отслаиваемого слоя. |
uk_UA |
dc.language.iso |
en |
uk_UA |
dc.publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Вопросы атомной науки и техники |
|
dc.subject |
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий |
uk_UA |
dc.title |
Blistering of W, Ta and W-Ta coatings under the influence of particles of low-energy hydrogen plazma |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Блістерінг W-, Та- і W-Та-покриттів під дією потоку частинок низькоенергетичної водневої плазми |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Блистеринг W-, Ta- и W-Ta-покрытий при воздействии потоками частиц низкоэнергетичной водородной плазмы |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
dc.identifier.udc |
669.017:539.16 |
|
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті