Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Blistering of W, Ta and W-Ta coatings under the influence of particles of low-energy hydrogen plazma

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Tolstolutskaya, G.D.
dc.contributor.author Kuprin, A.S.
dc.contributor.author Voyevodin, V.N.
dc.contributor.author Nikitin, A.V.
dc.contributor.author Ovcharenko, V.D.
dc.contributor.author Belous, V.A.
dc.contributor.author Vasilenko, R.L.
dc.contributor.author Kopanets, I.E.
dc.date.accessioned 2018-06-16T06:13:20Z
dc.date.available 2018-06-16T06:13:20Z
dc.date.issued 2017
dc.identifier.citation Blistering of W, Ta and W-Ta coatings under the influence of particles of low-energy hydrogen plazma / G.D. Tolstolutskaya, A.S. Kuprin, V.N. Voyevodin, A.V. Nikitin, V.D. Ovcharenko, V.A. Belous, R.L. Vasilenko, I.E. Kopanets // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 5. — С. 83-90. — Бібліогр.: 26 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/136153
dc.description.abstract The surface topography and deuterium retention in W, Ta and W-Ta coatings under the influence of low-energy deuterium plasma was studied. It was observed formation of blisters as dome and burst or delaminated structures. The W-Ta coatings showed improved characteristics: smaller sizes and density of blisters and a significantly lower thickness of the delaminated layer. uk_UA
dc.description.abstract Вивчено зміну топографії поверхонь покриттів W, Ta і W-Ta і вміст дейтерію під дією частинок низькоенергетичної водневої плазми. Спостерігалося утворення блістерів куполоподібної форми, відшарування та лущення. Покриття W-Ta показали поліпшені характеристики: менші розміри і знижену густину блістерів і значно меншу товщину відшарованого шару. uk_UA
dc.description.abstract Изучены изменение топографии поверхности покрытий W, Ta и W-Ta и накопление дейтерия под действием частиц низкоэнергетической дейтериевой плазмы. Наблюдалось образование блистеров куполообразной формы, отслаивание и шелушение. Покрытия W-Ta показали улучшенные характеристики: меньшие размеры и плотность блистеров и значительно уменьшенную толщину отслаиваемого слоя. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Физика радиационных и ионно-плазменных технологий uk_UA
dc.title Blistering of W, Ta and W-Ta coatings under the influence of particles of low-energy hydrogen plazma uk_UA
dc.title.alternative Блістерінг W-, Та- і W-Та-покриттів під дією потоку частинок низькоенергетичної водневої плазми uk_UA
dc.title.alternative Блистеринг W-, Ta- и W-Ta-покрытий при воздействии потоками частиц низкоэнергетичной водородной плазмы uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA
dc.identifier.udc 669.017:539.16


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис