Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Разработка процесса газофазного и плазмохимического осаждения покрытия на основе карбида бора

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Журавлев, А.Ю.
dc.contributor.author Шиян, А.В.
dc.contributor.author Семенов, Н.А.
dc.contributor.author Широков, Б.М.
dc.date.accessioned 2018-06-15T18:39:11Z
dc.date.available 2018-06-15T18:39:11Z
dc.date.issued 2017
dc.identifier.citation Разработка процесса газофазного и плазмохимического осаждения покрытия на основе карбида бора / А.Ю. Журавлев, А.В. Шиян, Н.А. Семенов, Б.М. Широков // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 2. — С. 156-159. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/136048
dc.description.abstract Представлены результаты исследований получения карбида бора водородным восстановлением треххлористого бора (BCl₃) в парах толуола (C₇H₈). Рассмотрены термодинамика процесса осаждения, газодинамические параметры парогазового потока при обтекании покрываемой поверхности в проточном реакторе. Исследованы кинетические особенности осаждения карбида бора в системе BCl₃-C₇H₈-H₂. uk_UA
dc.description.abstract Представлено результати досліджень отримання карбіду бору водневим відновленням трихлористого бору (BCl₃) у парах толуолу (C₇H₈). Розглянуто термодинаміку процесу осадження, газодинамічні параметри парогазового потоку при обтіканні поверхні, що покривається, у проточному реакторі. Досліджено кінетичні особливості осадження карбіду бору в системі BCl₃-C₇H₈-H₂. uk_UA
dc.description.abstract This paper presents the results of studies produce boron carbide hydrogen reduction of boron trichloride (BCl₃) and (C₇H₈) in toluene vapor. Considered the thermodynamics of the deposition process, gas-dynamic parameters of steam and gas flow in the flow of the substrate during vapor deposition of coatings in a flow reactor. The kinetic features of deposition of boron carbide in the system BCl₃-C₇H₈-H₂. uk_UA
dc.language.iso ru uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Физика радиационных и ионно-плазменных технологий uk_UA
dc.title Разработка процесса газофазного и плазмохимического осаждения покрытия на основе карбида бора uk_UA
dc.title.alternative Розробка процесу газофазового і плазмохімічного осадження покриття на основі карбіду бору uk_UA
dc.title.alternative Development of gas-phase and plasma chemical vapor deposition coatings based on boron carbid uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA
dc.identifier.udc 620.197:621.165.669.1


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис