Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Левченко, И.В. |
|
dc.contributor.author |
Стратийчук, И.Б. |
|
dc.contributor.author |
Томашик, В.Н. |
|
dc.contributor.author |
Маланич, Г.П. |
|
dc.contributor.author |
Станецкая, А.С. |
|
dc.contributor.author |
Корчевой, А.А. |
|
dc.date.accessioned |
2018-05-29T05:03:46Z |
|
dc.date.available |
2018-05-29T05:03:46Z |
|
dc.date.issued |
2017 |
|
dc.identifier.citation |
Влияние изменения концентрации C₆H₈O₇ на характер химического взаимодействия InAs, InSb, GaAs и GaSb с травильными растворами(NH₄)₂Cr₂O₇–HBr–C₆H₈O₇ (NH4)2Cr2O7–HBr–C6H8O7 / И.В. Левченко, И.Б. Стратийчук, В.Н. Томашик, Г.П. Маланич, А.С. Станецкая, А.А. Корчевой // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2017. — Т. 15, № 3. — С. 495–506. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
1816-5230 |
|
dc.identifier.other |
PACS: 61.72.uj, 68.35.bg, 68.35.Ct, 68.37.Ps, 81.65.Cf, 81.65.Ps, 82.65.+r |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/133493 |
|
dc.description.abstract |
В данной статье рассмотрены особенности химико-динамического полирования полупроводников типа AIIIBV травильными композициями(NH₄) ₂Cr₂O₇–HBr–C₆H₈O₇ с использованием C₆H₈O₇ разной исходной концентрации. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
У даній статті розглянуто особливості хеміко-динамічного полірування напівпровідників типу AIIIBV щавильними композиціями(NH₄)₂Cr₂O₇–HBr–C₆H₈O₇ з використанням C₆H₈O₇ різної вихідної концентрації. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
In this article, the peculiarities of the chemical-dynamic polishing of III–V semiconductors in the etching(NH₄)₂Cr₂O₇–HBr–C₆H₈O₇ compositions using various C₆H₈O₇ concentrations are determined. |
uk_UA |
dc.language.iso |
ru |
uk_UA |
dc.publisher |
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології |
|
dc.title |
Влияние изменения концентрации C₆H₈O₇ на характер химического взаимодействия InAs, InSb, GaAs и GaSb с травильными растворами (NH₄)₂Cr₂O₇–HBr–C₆H₈O₇ |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Influence of the C₆H₈O₇ Concentration Change on the Chemical Interaction of InAs, InSb, GaAs and GaSb with the Etching(NH₄)₂Cr₂O₇–HBr–C₆H₈O₇ Solutions |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті