Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек

dc.contributor.author	Короткевич, А.В.
dc.contributor.author	Плешкин, В.А.
dc.date.accessioned	2017-07-19T12:43:32Z
dc.date.available	2017-07-19T12:43:32Z
dc.date.issued	1999
dc.identifier.citation	Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек / А.В. Короткевич, В.А. Плешкин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 5-6. — С. 25-27. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.	uk_UA
dc.identifier.issn	2225-5818
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/122735
dc.description.abstract	Применение сухого пленочного фоторезиста в качестве изоляции анодированных алюминиевых подложек ГИС обеспечивает ряд важных преимуществ.	uk_UA
dc.description.abstract	The application of dry film photoresist as a insulation of GIC anodic coating aluminium bases provides number of important advantages.	uk_UA
dc.language.iso	ru	uk_UA
dc.publisher	Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Технология и конструирование в электронной аппаратуре
dc.subject	Технологические процессы	uk_UA
dc.title	Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек	uk_UA
dc.title.alternative	Сухий плівковий фоторезист як ізоляційний покрив алюмінієвих підкладинок	uk_UA
dc.title.alternative	The dry film photoresist as insulation coating of aluminium bases	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA