Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Радиационно стойкая фотоструктура на основе Cr/In₂Hg₃Te₆ для диода Шоттки

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Ащеулов, А.А.
dc.contributor.author Галочкин, А.В.
dc.contributor.author Романюк, И.С.
dc.contributor.author Дремлюженко, С.Г.
dc.date.accessioned 2017-04-09T15:20:20Z
dc.date.available 2017-04-09T15:20:20Z
dc.date.issued 2016
dc.identifier.citation Радиационно стойкая фотоструктура на основе Cr/In₂Hg₃Te₆ для диода Шоттки / А.А. Ащеулов, А.В. Галочкин, И.С. Романюк, С.Г. Дремлюженко // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2016. — № 2-3. — С. 3-7. — Бібліогр.: 19 назв. — рос. uk_UA
dc.identifier.issn 2225-5818
dc.identifier.other DOI: 10.15222/TKEA2016.2-3.0
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/115674
dc.description.abstract Представлены конструкция и технология изготовления структуры фотодиода Шоттки на основе подложки из радиационно-стойкого кристалла n-In₂Hg₃Te₆ с барьерным слоем из Cr, характеризуемого фотоответом в области 0,6—1,6 мкм при максимальной чувствительности 0,43 А/Вт на длине волны 1,55 мкм. Исследования электрических параметров этих фотодиодных структур показали, что высота потенциального барьера составляет 0,41 эВ, а величина обратного темнового тока не превышает 4 мкА. Созданные устройства сохраняют свою работоспособность при дозах гамма-облучения 2x10⁸ бэр. uk_UA
dc.description.abstract Представлено конструкцію і технологію виготовлення структури фотодіода Шотткі на основі підкладки з радіаційно стійкого кристала n-/In₂Hg₃Te₆ з бар'єрним шаром з Cr, що характеризується фотовідповіддю в області 0,6—1,6 мкм при максимальній чутливості 0,43 А/Вт на довжині хвилі 1,55 мкм. Дослідження електричних параметрів цих фотодіодних структур показали, що висота потенційного бар'єру складає 0,41 еВ, а величина зворотного темнового струму не перевищує 4 мкА. Створені пристрої зберігають свою працездатність при дозах гама-опромінення 2x10⁸ бер. uk_UA
dc.description.abstract Schottky photodiode structure was designed on the base of this semiconductor formed by a modified floating zone recrystallization technique where the sedimentation effect was leveled. It consists of n-In₂Hg₃Te₆ substrate and deposited by cathode sputtering Cr barrier layer of thickness within a range 10-11 nm choice of Cr is determined by its optimal optical, electric and adhesive features in high quality radiation-resistant photodiode structures manufacturing. Indium and nichrome are used as ohmic contacts. The barrier structures have the contact area of 1,13 mm² with photo response of 0,6-1,6 mm at the maximal sensitivity 0,43 A/W on the wavelength l,55 mm. Reverse dark current of these structures do not exceed 4 mA at the bias of 1 V (T=295 K), and the potential barrier height is equal to 0,41 eV. The tests of radiation resistance of these structures demonstrated their ability to function at doses of 2x10⁸ rem without evident parameters changes. This allows using them in practical aims in the conditions of high radiation. uk_UA
dc.language.iso ru uk_UA
dc.publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Технология и конструирование в электронной аппаратуре
dc.subject Новые технологии uk_UA
dc.title Радиационно стойкая фотоструктура на основе Cr/In₂Hg₃Te₆ для диода Шоттки uk_UA
dc.title.alternative Радіаційно стійка фотоструктура на основі Cr//In₂Hg₃Te₆ для діода Шотткі uk_UA
dc.title.alternative Radiation-resistant photostructure for Schottky diode based on Cr/In₂Hg₃Te₆ uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA
dc.identifier.udc 621.383.526, 621.793


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис