Crystallization kinetics of Ge₂₂Sb₂₂Tе₅₆ doped with Se and Ni

Abstract

Effects of Ni and Se incorporation on the crystallization kinetics of Ge:Sb:Te alloys have been studied. Both elements were found to increase the stability of the amorphous structure. The kinetics of crystallization under isothermal treatments indicates that Ni reduces both the barrier for thermal crystallization and the crystallization rate. Crystallization of samples containing Se is also retarded, possibly due to a stronger bonding of this element in comparison with Te.

Вивчено вплив Ni и Se на кiнетику кристалiзацiї Ge:Sb:Te сплавiв. Виявлено, що обидва елементи пiдвищують стабiльнiсть аморфної структури. Кiнетика кристалiзацiї при iзотермiчнiй обробцi показує, що Ni зменшує як бар.єр термiчної кристалiзацiї, так i швидкiсть кристалiзацiї. Кристалiзацiя зразкiв, якi мiстять Se також уповiльнена, можливо завдяки бiльш сильній енергії зв.язку цього елементу в порiвняннi з Te.

Изучено влияние Ni и Se на кинетику кристаллизации Ge:Sb:Te сплавов. Установлено, что оба элемента повышают стабильность аморфной структуры. Кинетика кристаллизации при изотермической обработке показывает, что Ni уменьшает как барьер термической кристаллизации так и скорость кристаллизации. Кристаллизация образцов, содержащих Se также замедленная, возможно благодаря более сильной энергии связи элемента по сравнению с Te.