Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

The influence of HF discharge on plasma parameters of gas source with incandescent cathode

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Shariy, S.V.
dc.contributor.author Yuferov, V.B.
dc.contributor.author Tkachova, T.I.
dc.contributor.author Svichkar, A.S.
dc.contributor.author Shvets, M.O.
dc.contributor.author Tkachov, V.I.
dc.date.accessioned 2017-01-17T16:03:51Z
dc.date.available 2017-01-17T16:03:51Z
dc.date.issued 2015
dc.identifier.citation The influence of HF discharge on plasma parameters of gas source with incandescent cathode / S.V. Shariy, V.B. Yuferov, T.I. Tkachova, A.S. Svichkar, M.O. Shvets, V.I. Tkachov // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 3. — С. 136-138. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.other PACS: 52.50.Dg
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/112100
dc.description.abstract An experimental study of the influence of HF power and configuration of the magnetic field on the plasma parameters of the gas source with incandescent cathode was carried out. It is shown that the application HF power into discharge results in reduction of electron temperature. For discharge in decreasing magnetic field the radial distribution of the plasma density in the axial region is more uniform compared with increasing magnetic field. uk_UA
dc.description.abstract Проведено експериментальне дослідження впливу ВЧ-потужності та конфігурації магнітного поля на параметри плазми газового джерела з розжарюваним катодом. Показано, що введення в розряд ВЧ-потужності призводить до зниження електронної температури. Для розряду в спадаючому магнітному полі радіальне розподілення щільності плазми в привісевій області більш однорідним в порівнянні із зростаючим магнітним полем. uk_UA
dc.description.abstract Проведено экспериментальное исследование влияния ВЧ-мощности и конфигурации магнитного поля на параметры плазмы газового источника с накаливаемым катодом. Показано, что введение в разряд ВЧ-мощности приводит к снижению электронной температуры. Для разряда в убывающем магнитном поле радиальное распределение плотности плазмы в приосевой области более однородное по сравнению с нарастающим магнитным полем. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Теория и техника ускорения частиц uk_UA
dc.title The influence of HF discharge on plasma parameters of gas source with incandescent cathode uk_UA
dc.title.alternative Вплив ВЧ-розряду на параметри плазми газового джерела з розжарювальним катодом uk_UA
dc.title.alternative Влияние ВЧ-разряда на параметры плазмы газового источника с накаливаемым катодом uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис