Подавление эмиссии макрочастиц в вакуумно-дуговых источниках плазмы

Abstract

Приведен краткий аналитический обзор методов подавления эмиссии микро- и наночастиц, часто называемых “макрочастицами” или “каплями”, в вакуумно-дуговых источниках эрозионной плазмы без применения фильтрующих систем. Рассмотрены 12 вариантов стационарных и импульсных плазменных источников, включая классические – с применением магнитных полей различной конфигурации, с введением в разрядное пространство реакционных газов, а также нетрадиционные – с использованием дуги в режиме горячего анода, с шунтирующим дуговым разрядом.

Наведено короткий аналітичний огляд методів заглушення емісії мікро- та наночасток у бесфільтровому вакуумно- дуговому розряді, які часто називають макрочастками або краплями. Розглянуто 12 варіантів стаціонарних та імпульсних плазмових джерел, включаючи класичні (з магнітними полями різних конфігурацій, з уведенням у розрядний простір реакційного газу) та нетрадиційні (з використанням дуги у режимі гарячого анода, з шунтуючим дуговим розрядом).

Methods of suppression of emission of micro- and nanoparticles, also referred to as macroparticles or droplets in vacuum arc plasma sources without filtering systems, are reviewed in this paper. There are considered 12 variants of the pulsed and steadystate sources of a plasma flow with small macroparticle contamination including the classic ones, which are based on magnetic fields of different configuration and reactive gases inlet as well as nontraditional devices, based on the hot refractory anode vacuum arc and the shunting vacuum arc discharge.