Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Butenko, V.I. |
|
dc.contributor.author |
Ivanov, B.I. |
|
dc.date.accessioned |
2017-01-04T18:48:13Z |
|
dc.date.available |
2017-01-04T18:48:13Z |
|
dc.date.issued |
2003 |
|
dc.identifier.citation |
Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing / V.I. Butenko, B.I. Ivanov // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 1. — С. 121-124. — Бібліогр.: 11 назв. — англ. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
1562-6016 |
|
dc.identifier.other |
PACS: 52.40.Mj |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110539 |
|
dc.description.abstract |
It is shown, that in electromagnetic plasma lenses moment aberrations obey the conservation law of the moment of the ion generalized momentum; they disappear when an ion source is placed in a zero magnetic field. Geometrical aberrations can be removed by choice of the optimal electric field intensity distribution along the radius that have been calculated. As a result, the ion current density and beam compression can achieve in the focus a value up to 10³ A/cm², and 10⁵, accordingly. Then influence of discrete distribution of the external (boundary) electrical potential upon ion focusing was studied, and an example of two-lens achromatic system have been investigated as well. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Досліджується плазмова лінза Морозова, у котрої магнітні поверхні є еквіпотенціалями електричного поля. Магнітне поле створюється центральним струмовим витком і двома бічними витками, включеними назустріч центральному. У роботі приведені результати комп'ютерного моделювання фокусування іонів з урахуванням їх поздовжнього, радіального й азимутального руху. Розглянуто засоби усунення моментних, геометричних і хроматичних аберацій. Проводиться оптимізація магнітного й електричного полів по величині і розподілу в просторі. Промодельоване вплив дискретного розподілу потенціалу на фокусування іонів і розглянуті пов'язані з цим аберації. Розглянуто комп'ютерну модель двухлінзової ахроматичної системи. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Исследуется плазменная линза Морозова, в которой магнитные поверхности являются эквипотенциалями электрического поля. Магнитное поле создается центральным токовым витком и двумя боковыми витками, включенными навстречу центральному. В работе приведены результаты компьютерного моделирования фокусировки ионов с учетом их продольного, радиального и азимутального движения. Рассмотрены способы устранения моментных, геометрических и хроматических аберраций. Проводится оптимизация магнитного и электрического полей по величине и распределению в пространстве. Промоделировано влияние дискретного распределения потенциала на фокусировку ионов и рассмотрены связанные с этим аберрации. Рассмотрена компьютерная модель двухлинзовой ахроматической системы. |
uk_UA |
dc.description.sponsorship |
The authors would like to thank A.A. Goncharov and I.M. Protsenko for consultations on their lenses |
uk_UA |
dc.language.iso |
en |
uk_UA |
dc.publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Вопросы атомной науки и техники |
|
dc.subject |
Plasma electronics |
uk_UA |
dc.title |
Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Аберації у електромагнітній плазмовій лінзі, запропонованої для фокусування інтенсивних широкоапертурних іонних пучків |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Аберрации в электромагнитной плазменной линзе, предложенной для фокусировки интенсивных широкоапертурных ионных пучков |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті