Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Butenko, V.I.
dc.contributor.author Ivanov, B.I.
dc.date.accessioned 2017-01-04T18:48:13Z
dc.date.available 2017-01-04T18:48:13Z
dc.date.issued 2003
dc.identifier.citation Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing / V.I. Butenko, B.I. Ivanov // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 1. — С. 121-124. — Бібліогр.: 11 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.other PACS: 52.40.Mj
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110539
dc.description.abstract It is shown, that in electromagnetic plasma lenses moment aberrations obey the conservation law of the moment of the ion generalized momentum; they disappear when an ion source is placed in a zero magnetic field. Geometrical aberrations can be removed by choice of the optimal electric field intensity distribution along the radius that have been calculated. As a result, the ion current density and beam compression can achieve in the focus a value up to 10³ A/cm², and 10⁵, accordingly. Then influence of discrete distribution of the external (boundary) electrical potential upon ion focusing was studied, and an example of two-lens achromatic system have been investigated as well. uk_UA
dc.description.abstract Досліджується плазмова лінза Морозова, у котрої магнітні поверхні є еквіпотенціалями електричного поля. Магнітне поле створюється центральним струмовим витком і двома бічними витками, включеними назустріч центральному. У роботі приведені результати комп'ютерного моделювання фокусування іонів з урахуванням їх поздовжнього, радіального й азимутального руху. Розглянуто засоби усунення моментних, геометричних і хроматичних аберацій. Проводиться оптимізація магнітного й електричного полів по величині і розподілу в просторі. Промодельоване вплив дискретного розподілу потенціалу на фокусування іонів і розглянуті пов'язані з цим аберації. Розглянуто комп'ютерну модель двухлінзової ахроматичної системи. uk_UA
dc.description.abstract Исследуется плазменная линза Морозова, в которой магнитные поверхности являются эквипотенциалями электрического поля. Магнитное поле создается центральным токовым витком и двумя боковыми витками, включенными навстречу центральному. В работе приведены результаты компьютерного моделирования фокусировки ионов с учетом их продольного, радиального и азимутального движения. Рассмотрены способы устранения моментных, геометрических и хроматических аберраций. Проводится оптимизация магнитного и электрического полей по величине и распределению в пространстве. Промоделировано влияние дискретного распределения потенциала на фокусировку ионов и рассмотрены связанные с этим аберрации. Рассмотрена компьютерная модель двухлинзовой ахроматической системы. uk_UA
dc.description.sponsorship The authors would like to thank A.A. Goncharov and I.M. Protsenko for consultations on their lenses uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Plasma electronics uk_UA
dc.title Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing uk_UA
dc.title.alternative Аберації у електромагнітній плазмовій лінзі, запропонованої для фокусування інтенсивних широкоапертурних іонних пучків uk_UA
dc.title.alternative Аберрации в электромагнитной плазменной линзе, предложенной для фокусировки интенсивных широкоапертурных ионных пучков uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис