Изменение структуры и оптических свойств многослойных рентгеновских зеркал C/Si при нагреве

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення фізики і астрономії
→
Металлофизика и новейшие технологии
→
Металлофизика и новейшие технологии, 2013 (том 35)
→
Металлофизика и новейшие технологии, 2013 (том 35), № 07
→
Переглянути статтю

dc.contributor.author	Журавель, И.А.
dc.contributor.author	Бугаев, Е.А.
dc.contributor.author	Воронов, Д.Л.
dc.contributor.author	Кондратенко, В.В.
dc.date.accessioned	2016-07-02T18:13:44Z
dc.date.available	2016-07-02T18:13:44Z
dc.date.issued	2013
dc.identifier.citation	Изменение структуры и оптических свойств многослойных рентгеновских зеркал C/Si при нагреве / И.А. Журавель, Е.А. Бугаев, Д.Л. Воронов, В.В. Кондратенко // Металлофизика и новейшие технологии. — 2013. — Т. 35, № 7. — С. 981-991. — Бібліогр.: 24 назв. — рос.	uk_UA
dc.identifier.issn	1024-1809
dc.identifier.other	PACS numbers: 07.85.Fv, 61.05.Cp, 68.65.Ac, 81.15.Cd
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/104170
dc.description.abstract	Проведено исследование влияния отжига в диапазоне 300—1050°С на структуру и рентгенооптические свойства многослойных наноразмерных рентгеновских зеркал C/Si.	uk_UA
dc.description.abstract	Виконано дослідження впливу відпалу в діапазоні 300—1050°С на структуру та рентґенооптичні властивості багатошарових нанорозмірних рентґенівських дзеркал C/Si.	uk_UA
dc.description.abstract	Study of annealing influence on structure and X-ray optical properties of nanoscale C/Si-multilayer X-ray mirrors is carried out within the 300—1050°С temperature range.	uk_UA
dc.language.iso	ru	uk_UA
dc.publisher	Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Металлофизика и новейшие технологии
dc.subject	Взаимодействия излучения и частиц с конденсированным веществом	uk_UA
dc.title	Изменение структуры и оптических свойств многослойных рентгеновских зеркал C/Si при нагреве	uk_UA
dc.title.alternative	Change of Structure and Optical Properties of Multilayer C/Si X-Ray Mirrors under Heating	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA