Досліджено процеси адсорбції–десорбції ряду первинних аліфатичних амінів на поверхні високодисперсних кремнезему, алюмо- та титанокремнеземів за допомогою методів ІЧ-спектроскопії та термопрограмованої десорбційної мас-спектрометрії. Розраховано константи адсорбційної рівноваги і величини граничної адсорбції амінів на поверхні досліджених нанооксидів. Виявлено, що максимальна адсорбція амінів спостерігається на поверхні алюмокремнезему.
Исследованы процессы адсорбции–десорбции ряда первичных алифатических аминов на поверхности высокодисперсных кремнезема, алюмо- и титанокремнеземов с помощью методов ИК-спектроскопии и ТПД МС. Рассчитаны константы адсорбционного равновесия и величины предельной адсорбции аминов на поверхности исследованных нанооксидов. Установлено, что наибольшая адсорбция аминов наблюдается на поверхности алюмокремнезема.
Adsorption/desorption processes of number of primary amines on high-dispersed silica, alumo- and titanosilica surfaces have been investigated. The used methods are IR spectroscopy and temperature programmed desorption mass spectrometry. The constants of adsorptional balance and values of amines limiting adsorption on nanooxide surfaces are calculated. It turns out that maximum adsorption on aluminia/silica surface is observed.