Наведено результати експериментального дослідження методом високошвидкісної
профільної кінозйомки (до 5000 кадр/с) у вакуумі при 1000°C кінетики змочування та
розтікання розплаву Cu—Sn—Ti по поверхнях керамічних матеріалів із нітриду
кремнію Si3N4.------------------------------------
The wetting and spreading kinetics of Cu—Sn—Ti melt over silicon nitride
surfaces was studied by means of a high-speed profile filming (up to
5000 frames/s) in a vacuum at 1000°C.