The experimental technique is described and the results of a study of the resistance to high vacuum electrical breakdowns of copper samples coated with thin films of titanium nitride are presented. The studies were carried out in a two-electrode system having the so-called "plane-tip" configuration. Using the method of X-ray diffractometry, we studied the effect of the structure of titanium nitride films on their efficiency as a material that reduces the probability of breakdown.
Описано методику експерименту та представлено результати дослідження на стійкість до високовакуумних електричних пробоїв мідних зразків з нанесеними на них тонкими плівками нітриду титану. Дослідження проводилися в двоелектродній системі, що має так звану конфігурацію «площина-вістря». Методом рентгенівської дифрактометрії вивчено вплив структури плівок нітриду титану на їхню ефективність використання в якості матеріалу, що зменшує ймовірність пробою.
Описана методика эксперимента и представлены результаты исследования на устойчивость к высоковакуумным электрическим пробоям медных образцов с нанесенными на них тонкими пленками нитрида титана. Исследования проводились в двухэлектродной системе, имеющей так называемую конфигурацию «плоскость-острие». Методом рентгеновской дифрактометрии изучено влияние структуры пленок нитрида титана на их эффективность использования в качестве материала, уменьшающего вероятность пробоя.