С помощью ИК-спектроскопии, а также качественного и количественного анализа поверхностных химических соединений изучено взаимодействие моно-тозил-β-циклодекстрина и бромпроизводного гептакис-(6-О-(n-тозил-β-циклодекстрина) с аминопропилкремнеземами, отличающимися концентрацией аминогрупп и пористой структурой. Установлены оптимальные условия химического взаимодействия тозил-β-циклодекстринов с аминопропильными группами поверхности органокремнеземов. Синтезированы органокремнеземы, отличающиеся функциональными заместителями верхнего края химически закрепленных молекул β-циклодекстрина.
Досліджено взаємодію моно-тозил-β-циклодекстрину і бромпохідного гептакис-(6-О-(n-тозил-β-циклодекстрину) з аморфними дисперсними амінопропилкремнеземами, що відрізняються поруватістю та вмістом аміногруп. Встановлено оптимальні умови хімічної взаємодії тозил-β-циклодекстринів з амінопропільними групами поверхні кремнеземів. Виявлено побічну реакцію (утворення основ Шиффа), яка здійснюється на поверхні амінопропилкремнеземів одночасно з хімічною іммобілізацією тозил-β-циклодекстринів.
The interaction of mono-tosyl-β-cyclodextrin and bromine derivative of heptakis-(6-O-(p-tosyl-β-cyclodextrin) with amorphous disperse aminopropylsilicas which differ by porosity and content of amino groups was investigated. The optimal conditions of chemical reaction between tosyl-β-cyclodextrins and amino propyl groups of silica’s surface were established. The side reaction (formation of Schiff bases) occurs simultaneously with chemical immobilization of tosyl-β-cyclodextrins on the surface of aminopropylsilicas.