Описан способ определения энергии электронов, использованный при исследовании возбуждения кильватерных полей последовательностью электронных сгустков в плазме и диэлектрических структурах. Энергия электронов определяется величиной экстраполированного пробега электронов, которая находится по измерению толщины окрашенного слоя, образуемого электронами в стекле. Распределение плотности окрашенного слоя вдоль направления движения электронов дает также возможность регистрировать изменение ширины энергетического спектра пучка и положение пучка относительно оси пролетного канала.
Описано спосіб визначення енергії релятивістського електронного пучка при дослідженні збудження кільватерних полів послідовністю електронних згустків в плазмі й діелектричних структурах. Енергія електронів визначається по величині екстрапольованого пробігу, який відповідає глибині потемніння, утвореного пучком у склі. Розподіл щільності потемніння по глибині дає також можливість реєструвати зміни ширини енергетичного спектра пучка і його розташування відносно вісі прольотного каналу.
Method of determination of electrons energy is described, that was used at research of wakefield excitation by a sequence of electron bunches in plasma and dielectric structures. Energy of electrons is estimated by the value of extrapolated path length of electrons, which is found by measuring the thickness of the coloured layer, formed by electrons in glass. Besides the distribution of density of the coloured layer along electron motion direction enables to register also change of energy spectrum width and bunch position concerning the axis of the transit channel.