The possibility of increasing the active power inputted into the discharge is shown by reducing the working
surface area of the high-voltage electrode in high-current pulsed plasma diode of low-pressure. Under conditions of
double electric layer formation, the power densities up to 2 GW/cm² are achieved in the discharge at initial stored
energy up to 200 J.
Показана можливість збільшення активної потужності, що вводиться в розряд, за рахунок зменшення
площі робочої поверхні високовольтного електрода в сильнострумовому імпульсному плазмовому діоді
низького тиску. В умовах утворення подвійного електричного шару в розряді досягається густина
потужності до 2 ГВт/см² при початковому енергозапасі до 200 Дж.
Показана возможность увеличения активной мощности, локально вводимой в разряд, за счет уменьшения
площади рабочей поверхности высоковольтного электрода в сильноточном импульсном плазменном диоде
низкого давления. В условиях образования двойного электрического слоя в разряде достигается плотность
мощности до 2 ГВт/см² при начальном энергозапасе до 200 Дж.